[发明专利]金属纳米颗粒平均粒径的测量系统及测量方法有效
| 申请号: | 201510301700.9 | 申请日: | 2015-06-05 |
| 公开(公告)号: | CN105092431B | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
| 发明(设计)人: | 白本锋;肖晓飞;刘祯 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 | 代理人: | 哈达 |
| 地址: | 100084 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属 纳米 颗粒 平均 粒径 测量 系统 测量方法 | ||
1.一种金属纳米颗粒粒径的测量系统,包括:一光源模组,一样品池,一光电探测单元以及一数据处理单元;其特征在于,所述光源模组用于依次发出的两个波长为λ1和λ2单色光;所述样品池用于承载参考样品及待测样品,光源模组输出的光经过样品池后进入光电探测单元,经光电探测单元处理后输入数据处理单元;所述数据处理单元包括在λ1和λ2两个波长下,金属纳米颗粒的吸光度比值与粒径D之间对应关系的第一数据处理模组,包括吸光度比值吸光度和平均消光截面<Cext>与粒径D之间关系的数据库<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>,其中,AR表示金属纳米颗粒的长宽比,CV表示样品分散性;以及在λ1和λ2两个波长下,金属纳米颗粒修正后的吸光度比值与平均粒径之间对应关系的第二数据处理模组,包括修正后的吸光度比值吸光度和平均消光截面<Cext>与平均粒径之间关系的数据库<Cext(λ1,D,AR,CV)>和<Cext(λ2,D,AR,CV)>。
2.如权利要求1所述的金属纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,在λ1和λ2两个波长下,金属纳米颗粒的吸光度对应为和金属纳米颗粒在不同波长下的吸光度的比值满足:
Rλ1,λ2=Aλ2/Aλ1。
3.如权利要求1所述的金属纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,吸光度及与金属纳米颗粒平均消光截面<Cext>之间的关系为:
其中OD为金纳米颗粒样品的光学厚度,Nv是颗粒的数量浓度,即单位体积内的颗粒数量,z为金属纳米颗粒样品的厚度。
4.如权利要求1所述的金属纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述金属纳米颗粒的消光光谱的测量结果用吸光度Aλ表示,满足:
Aλ=-log(Tλ),
其中,Tλ为金属纳米颗粒的透过率,λ是单色光波长,为所述光电探测单元探测到的测量光强度,为所述光电探测单元探测到的参考光强度。
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