[发明专利]一种多晶硅铸锭提高硅片品质的方法在审

专利信息
申请号: 201510270833.4 申请日: 2015-05-26
公开(公告)号: CN104831349A 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 杨建松;郑新华 申请(专利权)人: 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 332005 江西省九江*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种多晶硅铸锭提高硅片品质的方法,为了生产高效多晶硅片,我们选择在坩埚底部,规则布局能起引晶作用的“仔晶”;其引晶材料方面我们选择:“有一定直径的圆形或扁平状硅粒”;粘结剂材料我们选择:硅溶胶做无机粘结剂。对多种硅基形核物进行筛分、选择并均匀地涂覆在坩埚底部,并对热场进行精确控制来降低横向温度梯度,使晶粒沿着形核中心竖直且均匀地生长,得到高品质的多晶硅锭。
搜索关键词: 一种 多晶 铸锭 提高 硅片 品质 方法
【主权项】:
一种多晶硅铸锭提高硅片品质的方法,其特征在于,1)为了生产高效多晶硅片,我们选择在坩埚底部,规则布局能起引晶作用的“仔晶”;其引晶材料方面我们选择:“有一定直径的圆形或扁平状硅粒”;粘结剂材料我们选择:硅溶胶做无机粘结剂;2)为了规则布局引晶材料,我们用(比坩埚内底尺寸稍小一点的)塑料板做模板,按照设计尺寸,打好一定直径的均匀孔洞,以方便均匀喷涂圆形硅粒;坩埚底部规则布局实施情况是:A、在坩埚底部的最底层,首先均匀涂覆高纯石英砂:其过程为:首先对坩埚表面进行干净处理,坩埚体温保持在50‑70℃;将硅溶胶与高纯石英砂均匀混合后,然后用喷涂机将混合好的石英砂粒均匀喷在坩埚底部;B、在坩埚底部的第二层,按模板孔洞依次均匀喷涂圆形硅粒:其过程为:坩埚体温依然保持在50‑70℃;将硅溶胶与硅粒均匀混合后,在坩埚底部摆放好模板,然后用喷涂机将混合好的硅粒喷在孔洞内,移去模板则完成喷涂过程;C、在坩埚底部的第三层,按要求均匀喷涂氮化硅涂层:其过程为:坩埚体温依然保持在50‑70℃;采用免烧结技术配料:先将粘结剂与纯净水在一定温度下溶解,将合格并过筛的氮化硅粉体与之混合后,用喷涂机均匀喷在内底与内壁四周,低温烘烤干燥后待用;石英陶瓷坩埚经过以上三层处理,对于制备高效多晶硅片能起关键作用;其中底层、第二层起“引晶”材料作用;第三层起阻隔坩埚杂质向硅液渗透作用,由于氮化硅材料熔点比较高,其同时也起保护“引晶”材料作用,使“引晶”材料不会全部被熔去;3)生产高品质多晶硅片,有了以上关键措施后,同时需控制铸锭工艺:多晶铸锭装料、加热、熔化、长晶、退火和冷却等六个主要工艺步骤运行中,最重要的在熔化阶段,其关键的是保证放置在坩埚底部起引晶作用的“仔晶”不被全部熔化,否则就和常规铸锭一样;没被熔化掉的“仔晶”就是“晶体引向物”即初始的“晶核”;在长晶阶段,需要对固液界面与长晶状况进行实时分析判断,了解相关长晶参数,适时调整温度与冷却气体流量,做到最佳控制;在退火阶段,温度调整要求是:防止降温过快,对硅锭造成不良影响;并控制硅锭自然降温,为冷却出炉做好准备;4)在工艺控制环节,为了解决固液界面对结晶影响问题,炉体温度场要即时调整,要让硅原料在融化过程中和后续晶体生长过程中,其固液界面尽可能与水平面保持平行,此种(平面固液界面)定向凝固制备出的多晶硅锭,其晶粒均匀、晶体缺陷少,后续制备出的电池转换效率就高。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西旭阳雷迪高科技股份有限公司,未经江西旭阳雷迪高科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510270833.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top