[发明专利]一种溢出式成膜基板通柱填充方法有效
| 申请号: | 201510220396.5 | 申请日: | 2015-05-04 |
| 公开(公告)号: | CN104916547B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
| 发明(设计)人: | 王尚智;孙鲁威;邱海燕;林喜涛;张令文;赵丹;任泽亮 | 申请(专利权)人: | 山东航天电子技术研究所 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李微微;仇蕾安 |
| 地址: | 264670 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种溢出式成膜基板通柱填充方法,通过在正面使用开口的不锈钢板网板,背面铺设不锈钢丝网做衬底的方式,实现了两面溢出式的通柱填充,由于溢出的浆料填补了通柱在烧结过程中的收缩损耗,因此该方法制作的通柱表面平齐、结构致密,可靠性优于其他通柱;利用基板下方的不锈钢丝网作衬底来收集通柱溢出的浆料,既保证了通柱填充的完整性和致密性,又避免了溢出浆料在基板表面产生大面积的沾污;本发明方法与注射法和真空抽取法相比,工艺窗口宽、操作简便,成本低廉、可靠性高。 1 | ||
| 搜索关键词: | 通柱 填充 溢出式 浆料 溢出 不锈钢丝网 成膜基板 衬底 不锈钢板网 表面平齐 工艺窗口 基板表面 结构致密 烧结过程 真空抽取 致密性 注射法 基板 沾污 背面 收缩 开口 铺设 填补 制作 保证 | ||
【主权项】:
1.一种溢出式成膜基板通柱填充方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、在载物台(1)上先铺设一层无尘布(2),再铺设一层不锈钢丝网(3),使无尘布(2)和不锈钢丝网(3)均位于载物台(1)的中央部位;将不锈钢丝网(3)压紧并固定在所述载物台(1)上;所述不锈钢丝网(3)厚度为58um±3um,丝径为28um,目数为325目;步骤2、将预填充的成膜基板置于不锈钢丝网(3)上,将具有圆形开口的不锈钢网板置于成膜基板上,并将基板通柱与不锈钢网板的开口对齐;所述不锈钢网板厚度为30um,圆形开口直径为0.7mm±0.05mm;步骤3、在不锈钢网板的圆形开口前方添加足量的浆料,然后用刮板将浆料连续两次匀速刮过所述圆形开口;所述刮板与所述不锈钢网板所成角度为30°至45°;步骤4、将成膜基板从不锈钢丝网(3)上取下后,检查通柱正面填充是否完整无空洞,同时背面是否有浆料溢出:如果是,执行步骤5;如果否,将成膜基板清洗后,返回步骤2,对成膜基板再次进行填充,并且在执行步骤3时,加大刮浆的力度;步骤5、操作完成后,将成膜基板进行烘干、烧结处理。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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