[发明专利]沉积用掩模制造装置及利用该装置的沉积用掩模制造方法有效
申请号: | 201510172362.3 | 申请日: | 2015-04-13 |
公开(公告)号: | CN106148889B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 任星淳;黄圭焕;金在植;姜泰旭 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 齐葵;周艳玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开一种沉积用掩模制造装置及利用该装置的沉积用掩模制造方法。本发明的一实施例的沉积用掩模制造装置,利用激光在配置于载物台的掩模母材上加工图案孔,并且包括:激光振荡部,振荡出激光;分光部,使从激光振荡出的激光分为多个激光束;扫描器,调节经过分光部的多个激光束的照射方向;以及光学镜,配置于扫描器与掩模母材之间,以使经过扫描器的多个激光束中的至少一部分透射。 | ||
搜索关键词: | 沉积 用掩模 制造 装置 利用 方法 | ||
【主权项】:
1.一种沉积用掩模制造装置,利用激光在配置于载物台的掩模母材上加工图案孔,所述沉积用掩模制造装置包括:激光振荡部,振荡出所述激光;分光部,使从所述激光振荡部振荡出的所述激光分为多个激光束;扫描器,调节经过所述分光部的所述多个激光束的照射方向;和光学镜,配置于所述扫描器与所述掩模母材之间,以使经过所述扫描器的所述多个激光束中的至少一部分透射。
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