[发明专利]气体供给机构和气体供给方法以及使用其的成膜装置和成膜方法有效
| 申请号: | 201510142689.6 | 申请日: | 2015-03-27 |
| 公开(公告)号: | CN104947082B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
| 发明(设计)人: | 诸井政幸;山中孟;饗场康;堀田隼史 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳,吕秀平 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明以短时间且大流量供给由液体原料或固体原料生成的原料气体,并且避免原料的浪费。具备收纳固体状或液体状的原料的原料容器(1);在原料容器(1)中加热原料的加热器(2);向原料容器(1)内供给载气的载气供给配管(3);控制载气的流量的流量控制器(4);向腔室(10)供给原料气体的原料气体供给配管(5);设置于原料气体供给配管(5)的腔室(10)附近的原料气体供给·切断阀(6);和气体供给控制器(8),进行控制使得控制流量控制器(4),并且在关闭原料气体供给·切断阀(6)的状态下,通过流通载气,使原料容器(1)和原料气体供给配管(5)成为高压状态之后,打开原料气体供给·切断阀(6)。 | ||
| 搜索关键词: | 气体 供给 机构 方法 以及 使用 装置 | ||
【主权项】:
一种气体供给方法,将固体状或液体状的原料收纳于原料容器内,在所述原料容器中将所述原料加热使其升华或气化,经由载气供给配管向所述原料容器内供给载气,将在所述原料容器内升华或气化而生成的原料气体与所述载气一起经由原料气体供给配管供给对被处理体进行成膜处理的腔室,该气体供给方法的特征在于:在所述原料气体供给配管的所述腔室附近,设置用于在成膜处理时向所述腔室供给和切断所述原料气体而进行开关的原料气体供给·切断阀,控制所述载气的流量,并且在关闭所述原料气体供给·切断阀的状态下,通过流通所述载气,使所述原料容器内和所述原料气体供给配管内成为高压状态之后,打开所述原料气体供给·切断阀,检测所述原料容器或所述原料气体供给配管的压力,在该检测值超过设定值时,停止所述载气的供给。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





