[发明专利]气体供给机构和气体供给方法以及使用其的成膜装置和成膜方法

权利要求书

1.一种气体供给方法，将固体状或液体状的原料收纳于原料容器内，在所述原料容器中将所述原料加热使其升华或气化，经由载气供给配管向所述原料容器内供给载气，将在所述原料容器内升华或气化而生成的原料气体与所述载气一起经由原料气体供给配管供给对被处理体进行成膜处理的腔室，该气体供给方法的特征在于：

在所述原料气体供给配管的所述腔室附近，设置用于在成膜处理时向所述腔室供给和切断所述原料气体而进行开关的原料气体供给·切断阀，

控制所述载气的流量，并且在关闭所述原料气体供给·切断阀的状态下，通过流通所述载气，使所述原料容器内和所述原料气体供给配管内成为高压状态之后，打开所述原料气体供给·切断阀，

检测所述原料容器或所述原料气体供给配管的压力，在该检测值超过设定值时，停止所述载气的供给。

2.如权利要求1所述的气体供给方法，其特征在于：

以规定流量流通所述载气，经过与该流量对应的规定时间之后，打开所述原料气体供给·切断阀。

3.如权利要求1或2所述的气体供给方法，其特征在于：检测所述原料容器或所述原料气体供给配管的压力，求出其检测值与预先设定的设定值之差，控制所述载气的流量使得该差消失。

4.如权利要求1或2所述的气体供给方法，其特征在于：在关闭所述原料气体供给·切断阀的状态下，通过流通所述载气，使所述原料容器内和所述原料气体供给配管内成为高压状态之后，开关所述原料气体供给·切断阀，间断地供给所述原料气体。

5.一种成膜方法，交替进行向收纳有被处理体的腔室供给由固体状或液体状的原料生成的作为原料气体的第一气体的工序和向所述腔室供给作为还原气体的第二气体的工序，由此通过原子层堆叠法在被处理体上形成规定的膜，该成膜方法的特征在于：

供给所述第一气体的工序如下进行：在原料容器内收纳固体状或液体状的原料，在所述原料容器中将所述原料加热使其升华或气化，经由载气供给配管向所述原料容器内供给载气，将在所述原料容器内升华或气化而生成的作为原料气体的所述第一气体与所述载气一起经由原料气体供给配管供给所述腔室，

在所述原料气体供给配管的所述腔室附近，设置用于在成膜处理时向所述腔室供给和切断所述原料气体而进行开关的原料气体供给·切断阀，

控制所述载气的流量，并且在关闭所述原料气体供给·切断阀的状态下，通过流通所述载气，使所述原料容器内和所述原料气体供给配管内成为高压状态之后，打开所述原料气体供给·切断阀，供给所述第一气体，

检测所述原料容器或所述原料气体供给配管的压力，在该检测值超过设定值时，停止所述载气的供给，中止供给所述第一气体的工序。

6.如权利要求5所述的成膜方法，其特征在于：

供给所述第一气体的工序中，以规定流量流通所述载气，经过与该流量对应的规定时间之后，打开所述原料气体供给·切断阀。

7.如权利要求5或6所述的成膜方法，其特征在于：

检测所述原料容器或所述原料气体供给配管的压力，求出其检测值与预先设定的设定值之差，控制所述载气的流量使得该差消失。