[发明专利]基板处理设备

摘要

公开一种基板处理设备，该基板处理设备包括腔室、支撑单元、介电板、气体供应单元、天线和加热单元。其中，腔室具有工艺空间，工艺空间的上表面为开放的。支撑单元设置在腔室中，且支撑基板。介电板安装于腔室开放的上表面上以覆盖该开放的上表面。气体供应单元供应腔室中的气体。天线设置在介电板的上方，且用上述气体产生等离子体。加热单元设置在天线上方，且加热介电板。

主权项

一种基板处理设备，其特征在于，包括：腔室，所述腔室内具有工艺空间，所述工艺空间的上表面开放；支撑单元，所述支撑单元设置在所述腔室中且配置为支撑基板；介电板，所述介电板安装在所述腔室的开放的上表面上以覆盖所述开放的上表面；气体供应单元，所述气体供应单元配置成供应所述腔室中的气体；天线，所述天线设置在所述介电板的上方，且配置为用所述气体产生等离子体；加热单元，所述加热单元设置在所述天线的上方且配置为加热所述介电板；其中，所述加热单元包括：多个灯；和辐射角限制单元，所述辐射角限制单元限制从所述灯入射到所述介电板的光的辐射角；其中，所述辐射角限制单元包括壳体，所述壳体具有围绕所述灯的侧部的侧壁，使得所述光不直接入射到所述天线上。