[发明专利]一种基板及阵列基板有效
| 申请号： | 201510130550.X | 申请日： | 2015-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN104678656B | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 董廷泽;黄东升;张千 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基板及阵列基板，涉及显示技术领域，能够改善取向摩擦后的取向膜的表面沟槽的走向不一致的问题。本发明实施例提供的基板包括至少一个阵列基板，所述基板上的每个阵列基板周边均设置有间隔区域，且每个所述阵列基板包括显示区域和位于显示区域边缘的驱动区域，所述间隔区域包括第一区域和第二区域，所述第一区域位于所述驱动区域沿取向摩擦方向的延伸方向上，所述第二区域位于所述显示区域沿取向摩擦方向的延伸方向上，在所述第一区域与所述第二区域的交叠区域内分布有多个过孔，所述过孔的直径大于取向摩擦布料的纤维的直径。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 | ||
【主权项】：
一种基板，包括至少一个阵列基板，所述基板上的每个阵列基板周边均设置有间隔区域，且每个所述阵列基板包括显示区域和位于显示区域边缘的驱动区域，其特征在于，所述间隔区域包括第一区域和第二区域；所述第一区域位于所述驱动区域沿取向摩擦方向的延伸方向上，所述第二区域位于所述显示区域沿取向摩擦方向的延伸方向上，在所述第一区域与所述第二区域的交叠区域内分布有多个过孔，所述过孔的内部尺寸大于取向摩擦布料的纤维的直径。
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