[发明专利]一种基板及阵列基板有效
| 申请号: | 201510130550.X | 申请日: | 2015-03-24 |
| 公开(公告)号: | CN104678656B | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
| 发明(设计)人: | 董廷泽;黄东升;张千 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 阵列 | ||
1.一种基板,包括至少一个阵列基板,所述基板上的每个阵列基板周边均设置有间隔区域,且每个所述阵列基板包括显示区域和位于显示区域边缘的驱动区域,其特征在于,所述间隔区域包括第一区域和第二区域;
所述第一区域位于所述驱动区域沿取向摩擦方向的延伸方向上,所述第二区域位于所述显示区域沿取向摩擦方向的延伸方向上,在所述第一区域与所述第二区域的交叠区域内分布有多个过孔,所述过孔的内部尺寸大于取向摩擦布料的纤维的直径。
2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述过孔的排列方式为矩阵式,且在与取向摩擦方向垂直的方向上的每排所述过孔与相邻排的所述过孔一一对应。
3.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述过孔的排列方式为矩阵式,且在与取向摩擦方向垂直的方向上的每排所述过孔与相邻排的所述过孔之间的间隙一一对应。
4.根据权利要求1-3任一项所述的基板,其特征在于,所述过孔的直径为d,其中,10μm≤d≤15μm。
5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,在与取向摩擦方向垂直的方向上,相邻两个所述过孔的间距为w,其中,10μm≤w≤15μm。
6.根据权利要求1-3任一项所述的基板,其特征在于,所述过孔的深度为h,其中,0.8μm≤h≤1.3μm。
7.根据权利要求6所述的基板,其特征在于,包括依次形成在衬底基板上的栅极绝缘层和钝化层;
所述栅极绝缘层和所述钝化层均覆盖所述间隔区域中所述过孔所在的区域,所述过孔贯穿所述栅极绝缘层和所述钝化层。
8.根据权利要求6所述的基板,其特征在于,包括依次形成在衬底基板上的栅极金属层、栅极绝缘层和钝化层;
所述栅极金属层、所述栅极绝缘层和所述钝化层均覆盖所述间隔区域中所述过孔所在的区域,所述过孔贯穿所述栅极金属层、所述栅极绝缘层和所述钝化层。
9.根据权利要求6所述的基板,其特征在于,包括依次形成在衬底基板上的源漏极金属层和钝化层;
所述源漏极金属层和所述钝化层均覆盖所述间隔区域中所述过孔所在的区域,所述过孔贯穿所述源漏极金属层和所述钝化层。
10.根据权利要求1-3任一项所述的基板,其特征在于,包括形成在衬底基板上的透明电极层;所述透明电极层覆盖所述过孔。
11.根据权利要求10所述的基板,其特征在于,包括形成在所述透明电极层上的取向膜层,所述取向膜层覆盖所述过孔。
12.一种阵列基板,包括位于所述阵列基板中心的显示区域和位于显示区域边缘的驱动区域,在所述阵列基板的周边设有间隔区域,其特征在于,所述间隔区域包括第一区域和第二区域;
所述第一区域位于所述驱动区域沿取向摩擦方向的延伸方向上,所述第二区域位于所述显示区域沿取向摩擦方向的延伸方向上,在所述第一区域与所述第二区域的交叠区域内分布有多个过孔,所述过孔的内部尺寸大于取向摩擦布料的纤维的直径。
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