[发明专利]输送装置有效
申请号: | 201510126631.2 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN104943409B | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 川俣范幸;太田恭平 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B41J11/00 | 分类号: | B41J11/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 黄刚;车文 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 输送装置包括:外壳,形成有输送路径;第一辊,设置在输送路径上;第二辊,与第一辊对置;引导构件,状态能在第一和第二状态之间改变,在第一状态下,引导构件限定输送路径的一部分,在第二状态下,引导构件使输送路径暴露;辊保持器,支撑第二辊;推压力施加器,构造成在从第二辊指向第一辊的第一方向上对第二辊施加推压力;推压力调节器,构造成当引导构件在第一状态下时将推压力调节为第一值,当引导构件在第二状态下时将推压力调节为第二值,第二值比第一值小。输送装置能在引导构件打开时减小第一和第二辊的夹压力且能在引导构件关闭时稳定地恢复第一和第二辊的夹压力。 | ||
搜索关键词: | 输送 装置 | ||
【主权项】:
1.一种输送装置,包括:外壳,所述外壳形成有输送路径;第一辊,所述第一辊被设置在所述输送路径上;第二辊,所述第二辊与所述第一辊对置;引导构件,所述引导构件的状态能够在第一状态和第二状态之间改变,在所述第一状态下,所述引导构件限定所述输送路径的一部分,在所述第二状态下,所述引导构件使所述输送路径暴露;辊保持器,所述辊保持器支撑所述第二辊;框架,所述框架在所述外壳中支撑所述辊保持器;记录装置,所述记录装置被构造成在沿所述输送路径输送的片材上记录图像;推压力施加器,所述推压力施加器被构造成在从所述第二辊指向所述第一辊的第一方向上对所述第二辊施加推压力;和推压力调节器,所述推压力调节器被构造成当所述引导构件在所述第一状态下时将所述推压力调节为第一值,并且当所述引导构件在所述第二状态下时将所述推压力调节为第二值,所述第二值比所述第一值小,其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器位于所述框架和所述推压力施加器之间,其中所述框架支撑所述记录装置,并且其中在所述第一辊和所述第二辊被保持彼此接触的状态下夹压所述片材,其特征在于,当所述引导构件在所述第一状态下时,所述第一辊和所述第二辊通过第一夹压力夹压所述片材,并且当所述引导构件在所述第二状态下时,所述第一辊和所述第二辊通过比所述第一夹压力小的第二夹压力夹压所述片材。
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