[发明专利]输送装置有效
申请号: | 201510126631.2 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN104943409B | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 川俣范幸;太田恭平 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B41J11/00 | 分类号: | B41J11/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 黄刚;车文 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 输送 装置 | ||
1.一种输送装置,包括:
外壳,所述外壳形成有输送路径;
第一辊,所述第一辊被设置在所述输送路径上;
第二辊,所述第二辊与所述第一辊对置;
引导构件,所述引导构件的状态能够在第一状态和第二状态之间改变,在所述第一状态下,所述引导构件限定所述输送路径的一部分,在所述第二状态下,所述引导构件使所述输送路径暴露;
辊保持器,所述辊保持器支撑所述第二辊;
框架,所述框架在所述外壳中支撑所述辊保持器;
记录装置,所述记录装置被构造成在沿所述输送路径输送的片材上记录图像;
推压力施加器,所述推压力施加器被构造成在从所述第二辊指向所述第一辊的第一方向上对所述第二辊施加推压力;和
推压力调节器,所述推压力调节器被构造成当所述引导构件在所述第一状态下时将所述推压力调节为第一值,并且当所述引导构件在所述第二状态下时将所述推压力调节为第二值,所述第二值比所述第一值小,
其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器位于所述框架和所述推压力施加器之间,
其中所述框架支撑所述记录装置,并且
其中在所述第一辊和所述第二辊被保持彼此接触的状态下夹压所述片材,
其特征在于,
当所述引导构件在所述第一状态下时,所述第一辊和所述第二辊通过第一夹压力夹压所述片材,并且
当所述引导构件在所述第二状态下时,所述第一辊和所述第二辊通过比所述第一夹压力小的第二夹压力夹压所述片材。
2.根据权利要求1所述的输送装置,其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器接触所述推压力施加器,并且当所述引导构件在所述第二状态下时,所述推压力调节器与所述推压力施加器间隔开。
3.根据权利要求1所述的输送装置,其中所述推压力调节器被构造成:与所述引导构件的状态的变化连动地在与所述第一方向交叉的方向上移动。
4.根据权利要求1所述的输送装置,
其中所述框架包括接合部,并且
其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器与所述接合部接合。
5.根据权利要求1所述的输送装置,其中所述框架包括:第一接触表面,所述第一接触表面接触所述记录装置;和第二接触表面,所述第二接触表面是所述第一接触表面的背侧,并且当所述引导构件在所述第一状态下时,所述第二接触表面接触所述推压力调节器。
6.根据权利要求1所述的输送装置,其中所述引导构件用作所述外壳的侧壁的至少一部分。
7.根据权利要求1或2所述的输送装置,
其中所述推压力施加器包括弹性构件和盖,所述盖接触所述弹性构件的端部,
其中所述盖能够相对于所述辊保持器移动,并且
其中所述弹性构件位于所述辊保持器和所述盖之间,并且所述弹性构件被构造成在离开所述辊保持器的方向上推压所述盖。
8.根据权利要求1或2所述的输送装置,其中所述推压力调节器与所述引导构件一体地形成,并且所述推压力调节器与所述引导构件的状态的变化连动地移动。
9.根据权利要求1或2所述的输送装置,
其中所述推压力施加器包括:弹性构件,所述弹性构件被构造成产生所述推压力;和盖,所述盖接触所述弹性构件的端部,并且
其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器将所述盖定位在第一位置处,在所述第一位置处,所述弹性构件产生第一推压力,并且当所述引导构件在所述第二状态下时,所述推压力调节器将所述盖定位在第二位置处,在所述第二位置处,所述弹性构件产生第二推压力。
10.根据权利要求9所述的输送装置,
其中所述弹性构件是压缩螺旋弹簧,并且
其中与当所述盖位于所述第二位置处时相比,当所述盖位于所述第一位置处时,所述压缩螺旋弹簧的长度较小。
11.一种输送装置,包括:
外壳,所述外壳形成有输送路径;
第一辊,所述第一辊被设置在所述输送路径上;
第二辊,所述第二辊与所述第一辊对置;
引导构件,所述引导构件的状态能够在第一状态和第二状态之间改变,在所述第一状态下,所述引导构件限定所述输送路径的一部分,在所述第二状态下,所述引导构件使所述输送路径暴露;
辊保持器,所述辊保持器支撑所述第二辊;
框架,所述框架在所述外壳中支撑所述辊保持器;
记录装置,所述记录装置被构造成在沿所述输送路径输送的片材上记录图像;
推压力施加器,所述推压力施加器被构造成在从所述第二辊指向所述第一辊的第一方向上对所述第二辊施加推压力;和
推压力调节器,所述推压力调节器被构造成当所述引导构件在所述第一状态下时将所述推压力调节为第一值,并且当所述引导构件在所述第二状态下时将所述推压力调节为第二值,所述第二值比所述第一值小,
其中当所述引导构件在所述第一状态下时,所述推压力调节器位于所述框架和所述推压力施加器之间,并且
其中所述框架支撑所述记录装置,其特征在于,所述框架包括:第一接触表面,所述第一接触表面接触所述记录装置;和第二接触表面,所述第二接触表面是所述第一接触表面的背侧,并且当所述引导构件在所述第一状态下时,所述第二接触表面接触所述推压力调节器。
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