[发明专利]一种改进型压差法在硅微通道内壁上液流沉积薄膜的方法和装置在审
| 申请号： | 201510124934.0 | 申请日： | 2015-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN104843636A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 王连卫;梁赪;朱一平;徐少辉 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学;上海欧普泰科技创业有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01M4/139 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 吴泽群 |
| 地址： | 200062 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种改进型压差法在硅微通道内壁上液流沉积薄膜的方法和装置，它包括容器；所述的容器由隔板将腔体分隔成两个腔体：第一腔体和第二腔体；第一腔体和第二腔体之间的隔板上设置有连通两个腔体的卡槽；所述的卡槽上放置有硅微通道；在第一腔体和第二腔体之间设置有循环泵，其中，循环泵的进水口设置于第二腔体的底部，出水口设置于第一腔体的上方；所述的第一腔体内注有进行液流沉积的镀液。本发明的有益效果在于：明显的改善了用传统沉积方法与传统的压差沉积法进行薄膜沉积时，硅微通道内壁上出现的薄膜沉积不均匀的现象，用此改进型压差液流沉积法进行薄膜沉积的硅微通道作为锂离子电池的电极，可提高锂离子电池的整体性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进型 压差法 通道 壁上 沉积 薄膜 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种改进型压差法在硅微通道内壁上液流沉积薄膜的装置，其特征在于：包括容器；所述的容器由隔板将腔体分隔成两个腔体：第一腔体和第二腔体；第一腔体和第二腔体之间的隔板上设置有连通两个腔体的卡槽；所述的卡槽上放置有硅微通道；在第一腔体和第二腔体之间设置有循环泵，其中，循环泵的进水口设置于第二腔体的底部，出水口设置于第一腔体的上方；所述的第一腔体内注有进行液流沉积的镀液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学;上海欧普泰科技创业有限公司，未经华东师范大学;上海欧普泰科技创业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510124934.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
