[发明专利]电感器、线圈基板以及线圈基板的制造方法有效
申请号: | 201510119783.X | 申请日: | 2015-03-18 |
公开(公告)号: | CN104934298B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 中村敦;中西元;松本隆幸 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01F41/04 |
代理公司: | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 芮玉珠 |
地址: | 日本长野县*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够实现小型化的电感器以及线圈基板。电感器具有线圈基板,该线圈基板包括:层积体,其具有基板、被层积在基板的下表面上的结构体、和被层积在基板的上表面上的多个结构体;以及绝缘膜,其覆盖层积体的表面,所述层积体的表面包括沿厚度方向贯穿层积体的贯穿孔的内壁面。结构体具有绝缘层,其被层积在基板的下表面上;以及布线,其被层积在绝缘层的下表面上。结构体具有:绝缘层;以及布线,其分别被层积在绝缘层的下表面上,并且侧面的一部分被绝缘层覆盖。在线圈基板中,通过在上下相邻的布线彼此串联连接,而形成连接螺旋状的线圈。基板的厚度厚于绝缘层的厚度。 | ||
搜索关键词: | 电感器 线圈 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电感器,其具备:层积体,其包括基板、被层积在所述基板的下表面上的第1结构体、和被依次层积在所述基板的上表面上的多个第2结构体;贯穿孔,其沿厚度方向贯穿所述层积体;以及绝缘膜,其覆盖所述层积体,所述第1结构体包括被层积在所述基板的下表面上的第1绝缘层、和被层积在所述第1绝缘层的下表面上的第1布线,所述第1布线位于所述层积体的最下层,所述多个第2结构体包括多个第2绝缘层和多个第2布线,所述多个第2结构体的各个第2结构体包括所述多个第2绝缘层的一个第2绝缘层和所述多个第2布线中的一个第2布线,所述多个第2绝缘层中的一个绝缘层位于所述层积体的最上层,所述多个第2绝缘层分别被层积在所述多个第2布线中的相对应的一个布线的上表面,所述基板的内侧面、所述第1结构体的内侧面以及所述多个第2结构体的内侧面形成所述贯穿孔的内壁面,所述第1布线包括第1连接部,位于所述多个第2结构体中最上层的第2结构体上的所述第2布线包括第2连接部,所述绝缘膜将所述层积体覆盖,但所述层积体的所述第1连接部以及所述第2连接部露出的面除外,由所述第1布线和所述多个第2布线串联连接而形成螺旋状线圈,所述基板的厚度厚于所述第1绝缘层的厚度、且厚于每个所述第2绝缘层的厚度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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