[发明专利]电感器、线圈基板以及线圈基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510119783.X 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN104934298B 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 中村敦;中西元;松本隆幸 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01F41/04
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人: 芮玉珠
地址: 日本长野县*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电感器 线圈 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电感器,其具备:

层积体,其包括基板、被层积在所述基板的下表面上的第1结构体、和被依次层积在所述基板的上表面上的多个第2结构体;

贯穿孔,其沿厚度方向贯穿所述层积体;以及

绝缘膜,其覆盖所述层积体,

所述第1结构体包括被层积在所述基板的下表面上的第1绝缘层、和被层积在所述第1绝缘层的下表面上的第1布线,

所述第1布线位于所述层积体的最下层,

所述多个第2结构体包括多个第2绝缘层和多个第2布线,所述多个第2结构体的各个第2结构体包括所述多个第2绝缘层的一个第2绝缘层和所述多个第2布线中的一个第2布线,

所述多个第2绝缘层中的一个绝缘层位于所述层积体的最上层,

所述多个第2绝缘层分别被层积在所述多个第2布线中的相对应的一个布线的上表面,

所述基板的内侧面、所述第1结构体的内侧面以及所述多个第2结构体的内侧面形成所述贯穿孔的内壁面,

所述第1布线包括第1连接部,

位于所述多个第2结构体中最上层的第2结构体上的所述第2布线包括第2连接部,

所述绝缘膜将所述层积体覆盖,但所述层积体的所述第1连接部以及所述第2连接部露出的面除外,

由所述第1布线和所述多个第2布线串联连接而形成螺旋状线圈,

所述基板的厚度厚于所述第1绝缘层的厚度、且厚于每个所述第2绝缘层的厚度。

2.根据权利要求1所述的电感器,其进一步具备:

磁体,其将所述绝缘膜覆盖,但所述层积体的所述第1连接部以及所述第2连接部露出的面除外,所述磁体设置于所述贯穿孔内;以及

一对电极,其被形成在所述层积体的所述第1连接部以及所述第2连接部露出的表面上,并与所述第1连接部以及所述第2连接部分别电连接。

3.根据权利要求2所述的电感器,其中,

所述磁体是含有磁体填充物的绝缘性树脂。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的电感器,其中,

所述多个第2布线通过多个贯穿电极电连接,

所述多个贯穿电极分别贯穿在所述厚度方向相邻的所述第2结构体中的下侧的第2结构体的所述第2绝缘层、和上侧的第2结构体的所述第2布线以及所述第2绝缘层。

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的电感器,其中,

所述基板和所述多个第2结构体通过多个粘合层进行粘接,所述多个粘合层在所述基板和所述多个第2结构体之间各配置一个。

6.一种线圈基板,其具备:

区块,该区块包括被形成在多个区域的多个单位线圈基板,

所述多个单位线圈基板分别包括:

层积体,该层积体包括基板、被层积在所述基板的下表面上的第1结构体、以及被依次层积在所述基板的上表面上的多个第2结构体;

贯穿孔,其沿厚度方向贯穿所述层积体;以及

绝缘膜,其覆盖所述层积体,

所述第1结构体包括被层积在所述基板的下表面上的第1绝缘层、以及被层积在所述第1绝缘层的下表面上的第1布线,

所述第1布线位于所述层积体的最下层,

所述多个第2结构体包括多个第2绝缘层和多个第2布线,所述多个第2结构体的各个第2结构体包括所述多个第2绝缘层的一个第2绝缘层和所述多个第2布线中的一个第2布线,

所述多个第2绝缘层中的一个绝缘层位于所述层积体的最上层,

所述多个第2绝缘层分别被层积在所述多个第2布线中相对应的一个布线的上表面,

所述基板的内侧面、所述第1结构体的内侧面以及所述多个第2结构体的内侧面形成所述贯穿孔的内壁面,

所述第1布线包括第1连接部,

位于所述多个第2结构体中的最上层的第2结构体上的第2布线包括第2连接部,

所述绝缘膜将所述层积体覆盖,但所述层积体的所述第1连接部以及所述第2连接部露出的面除外,

由所述第1布线和所述多个第2布线串联连接而形成螺旋状线圈,

所述基板的厚度厚于所述第1绝缘层的厚度、且厚于每个所述第2绝缘层的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510119783.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top