[发明专利]折射率分布测量方法、测量装置及制造光学元件的方法无效
| 申请号： | 201510109857.1 | 申请日： | 2015-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104914071A | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 加藤正磨 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了折射率分布测量方法、测量装置及制造光学元件的方法。一种折射率分布测量方法包括以下步骤：测量被检物的透射波阵面，基于透射波阵面的测量结果确定被检物的第一折射率分布，基于与被检物的第二折射率分布相关的信息确定透射波阵面的光的透射方向上的第三折射率分布，及基于第一折射率分布和第三折射率分布计算被检物的三维折射率分布。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 分布 测量方法 测量 装置 制造 光学 元件 方法 | ||
【主权项】：
一种折射率分布测量方法，其特征在于，包括以下步骤：测量被检物的透射波阵面；基于所述透射波阵面的测量结果确定所述被检物的第一折射率分布；基于与所述被检物的第二折射率分布相关的信息确定所述透射波阵面的光的透射方向上的第三折射率分布；及基于第一折射率分布和第三折射率分布计算所述被检物的三维折射率分布。
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