[发明专利]降低阳极空穴注入的二极管结构在审
申请号: | 201510103019.3 | 申请日: | 2015-03-09 |
公开(公告)号: | CN104681635A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 程炜涛 | 申请(专利权)人: | 江苏中科君芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/02;H01L29/45 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;张涛 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新区菱*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种二极管结构,尤其是一种降低阳极空穴注入的二极管结构,属于半导体二极管的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述降低阳极空穴注入的二极管结构,包括半导体基板,所述半导体基板内包括用于形成PN结的P导电区域与N导电区域;在所述P导电区域与N导电区域之间设置有掺杂浓度大于N导电区域的N+区域。本发明通过在P导电区域与N导电区域间设置N+区域,N+区域的掺杂浓度大于N导电区域的掺杂浓度,通过N+区域与P导电区域内空穴的结合,减少进入N导电区域内的空穴注入量,从而能有效降低二极管的动态损耗,结构紧凑,安全可靠。 | ||
搜索关键词: | 降低 阳极 空穴 注入 二极管 结构 | ||
【主权项】:
一种降低阳极空穴注入的二极管结构,包括半导体基板,所述半导体基板内包括用于形成PN结的P导电区域(2)与N导电区域(3);其特征是:在所述P导电区域(2)与N导电区域(3)之间设置有掺杂浓度大于N导电区域(3)的N+区域(5)。
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