[发明专利]一种新型薄膜沉积铝前驱体及其制备方法

摘要

一种新型薄膜沉积铝前驱体，其特征在于，具有如下的结构式(I)的分子结构，其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅表示氢原子、C₁～C₆烷基、C₂～C₅链烯基、C₃～C₁₀环烷基、C₆～C₁₀芳基或—Si(R₀)₃、以及上述基团的卤素取代基团，其中R₀为C₁～C₆烷基或者其卤素取代基团，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅相同或相异。依照本发明，研发了热稳定好、不易分解的薄膜沉积前驱体，便于储存和运输，高温挥发性好，可通过CVD/ALD工艺制备含铝薄膜如铝金属薄膜、含铝的氧化物薄膜、含铝的氮化物薄膜、含铝的合金薄膜，成膜性能优良。

主权项

1.一种薄膜沉积铝前驱体，其特征在于，具有结构式(I)的分子结构:其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅表示氢原子。