[发明专利]一种掩膜板及阵列基板的制造方法

摘要

本发明公开了一种掩膜板及阵列基板的制造方法，属于显示技术领域。掩膜板包括：对应阵列基板行驱动电路GOA区域的第一区域和对应阵列基板显示区域的第二区域；第一区域具有至少一个第一开口，至少一个第一开口用于在阵列基板GOA区域形成栅绝缘层GI过孔，GI过孔用于暴露出栅线；第二区域具有至少一个第二开口，至少一个第二开口为半色调掩膜开口，至少一个第二开口用于在阵列基板显示区域形成VIA过孔，VIA过孔用于暴露出源漏金属层的图案。本发明通过将形成GOA区域GI过孔的第一开口和形成显示区域VIA过孔的第二开口制作在同一个掩膜板上，两种过孔采用同一块掩膜板形成，降低了产品的制造成本。

主权项

1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：对应阵列基板行驱动电路GOA区域的第一区域和对应阵列基板显示区域的第二区域；所述第一区域具有至少一个第一开口，所述至少一个第一开口用于在所述阵列基板GOA区域形成栅绝缘层GI过孔，所述GI过孔用于暴露出栅线；所述第二区域具有至少一个第二开口，所述至少一个第二开口为半色调掩膜开口，所述至少一个第二开口用于在所述阵列基板显示区域形成VIA过孔，所述VIA过孔用于暴露出源漏金属层的图案；其中，所述掩膜板还包括：对应阵列基板集成电路接口IC Pad区域的第三区域；所述第三区域具有至少一个第三开口，所述至少一个第三开口为半色调掩膜开口，且所述至少一个第三开口用于在所述阵列基板IC Pad区域形成VIA过孔。