[发明专利]一种掩膜板及阵列基板的制造方法

说明书

本发明公开了一种掩膜板及阵列基板的制造方法，属于显示技术领域。掩膜板包括：对应阵列基板行驱动电路GOA区域的第一区域和对应阵列基板显示区域的第二区域；第一区域具有至少一个第一开口，至少一个第一开口用于在阵列基板GOA区域形成栅绝缘层GI过孔，GI过孔用于暴露出栅线；第二区域具有至少一个第二开口，至少一个第二开口为半色调掩膜开口，至少一个第二开口用于在阵列基板显示区域形成VIA过孔，VIA过孔用于暴露出源漏金属层的图案。本发明通过将形成GOA区域GI过孔的第一开口和形成显示区域VIA过孔的第二开口制作在同一个掩膜板上，两种过孔采用同一块掩膜板形成，降低了产品的制造成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜板及阵列基板的制造方法。

背景技术

在TFT(英文：Thin Film Transistor；中文：薄膜晶体管)液晶面板中，为了减小液晶面板的边框宽度，通常是通过GOA(英文：Gate On Array；中文：阵列基板行驱动)技术，将栅极驱动电路集成在液晶面板的阵列基板上，来代替外接的驱动芯片，从而实现液晶面板的显示功能。而阵列基板一般包括GOA区域和显示区域，在GOA区域中，需要通过形成贯穿GI(英文：Gate Insulator；中文：栅绝缘)层的过孔，将栅线与源漏金属层进行连接；在显示区域中，同样需要通过形成过孔将TFT的漏极与像素电极进行连接。

现有技术通常是制作两块掩膜板，即，采用GI掩膜板和VIA(中文：过孔)掩膜板分别形成位于GOA区域和显示区域的过孔。但是，制作两块掩膜板会增加产品的制造成本。

发明内容

为了解决现有技术的问题，本发明实施例提供了一种掩膜板及阵列基板的制造方法。所述技术方案如下：

一方面，提供了一种掩膜板，所述掩膜板包括：对应阵列基板行驱动电路GOA区域的第一区域和对应阵列基板显示区域的第二区域；

所述第一区域具有至少一个第一开口，所述至少一个第一开口用于在所述阵列基板GOA区域形成栅绝缘层GI过孔，所述GI过孔用于暴露出栅线；

所述第二区域具有至少一个第二开口，所述至少一个第二开口为半色调掩膜开口，所述至少一个第二开口用于在所述阵列基板显示区域形成VIA过孔，所述VIA过孔用于暴露出源漏金属层的图案。

另一方面，提供了一种阵列基板的制造方法，采用上述的掩膜板，所述方法包括：

在透明基板上形成栅线的图案；

在形成有栅线图案的基板上形成栅绝缘层；

在所述栅绝缘层的表面，采用掩膜板，通过构图工艺在阵列基板行驱动电路GOA区域形成至少一个栅绝缘层GI过孔，所述至少一个GI过孔用于贯穿所述栅绝缘层以暴露出所述栅线；

在形成有至少一个GI过孔的基板表面依次形成有源层和源漏金属层的图案，在所述GOA区域，所述栅线与所述源漏金属层的图案在所述至少一个GI过孔位置处直接相连；

在形成有有源层和数据线图案的基板上形成保护层；

在所述保护层的表面，采用所述掩膜板，通过构图工艺在所述阵列基板显示区域形成至少一个VIA过孔，所述至少一个VIA过孔用于贯穿所述保护层以暴露出所述源漏金属层的图案。

在本发明实施例中，该掩膜板上包括至少一个第一开口和至少一个第二开口，通过第一开口可以在阵列基板GOA区域形成GI过孔，通过第二开口可以在阵列基板显示区域形成VIA过孔，也即是，将形成GOA区域GI过孔的第一开口和形成显示区域VIA过孔的第二开口制作在同一个掩膜板上，两种过孔采用同一块掩膜板形成，降低了产品的制造成本。

附图说明