[发明专利]用于经修改单元构造以及所产生元件的方法与设备有效
| 申请号： | 201510035958.9 | 申请日： | 2015-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN104809262B | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 袁磊;M·拉希德;桂宗郁 | 申请（专利权）人： | 格罗方德半导体公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟,王锦阳 |
| 地址： | 英属开曼群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于经修改单元构造以及所产生元件的方法与设备，揭露一种用于经修改单元构造以及所产生元件的方法。实施例可包括决定用于集成电路(IC)设计中多个第一路径的第一垂直轨道间距，每一个第一路径具有第一宽度，决定IC设计中第二路径的第二垂直轨道间距，第二路径具有第二宽度，以及基于第一及第二垂直轨道间距，指定IC设计中单元垂直尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 修改 单元 构造 以及 产生 元件 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种计算机实现的方法，包括下列步骤：决定用于集成电路(IC)设计中多个第一路径的第一垂直轨道间距，该多个第一路径的每一个具有第一宽度；决定该集成电路设计中第二路径的第二垂直轨道间距，该第二路径具有第二宽度；基于双图案工艺的最小金属宽度，决定该第一宽度；基于该双图案工艺的最小第二金属(M2)节距，决定该第一垂直轨道间距；以及基于该第一及第二垂直轨道间距，指定该集成电路设计中的单元垂直尺寸，其中，该单元垂直尺寸不等于该最小第二金属节距的整数倍数，以及所述步骤由至少一处理器执行。
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