[其他]确定反射表面的均匀度的系统、表面分析设备和系统

摘要

本专利申请涉及用于确定反射表面的均匀度的系统、确定设备外壳的表面的均匀度的系统、表面分析设备以及表面分析系统。确定反射表面的均匀度的系统包括能够执行图像分析的计算设备；耦接到计算设备的光发射设备和光捕获设备，其中光发射设备被配置为将光图案发射到反射表面上，光图案包括限定形状阵列的多个断开连接的点，光捕获设备被配置为从反射表面接收反射光图案，计算设备被配置为对反射光图案执行图像分析，以便提供对反射表面的表面均匀度的估计，图像分析包括计算由反射光图案限定的多个反射多边形中的每个反射多边形的面积。

主权项

一种用于确定反射表面的均匀度的系统，其特征在于，所述系统包括：计算设备，所述计算设备能够执行图像分析；光发射设备，所述光发射设备操作地耦接到所述计算设备，其中所述光发射设备被配置为将光图案发射到所述反射表面上，所述光图案包括限定形状阵列的多个断开连接的点；和光捕获设备，所述光捕获设备操作地耦接到所述计算设备，其中，所述光捕获设备被配置为从所述反射表面接收反射光图案，并且其中，所述计算设备被配置为对所述反射光图案执行图像分析，以便提供对所述反射表面的表面均匀度的估计，其中所述图像分析包括计算由所述反射光图案限定的多个反射多边形中的每个反射多边形的面积。