[其他]确定反射表面的均匀度的系统、表面分析设备和系统

权利要求书

1.一种用于确定反射表面的均匀度的系统，其特征在于，所述系统包括：

计算设备，所述计算设备能够执行图像分析；

光发射设备，所述光发射设备操作地耦接到所述计算设备，其中所述光发射设备被配置为将光图案发射到所述反射表面上，所述光图案包括限定形状阵列的多个断开连接的点；和

光捕获设备，所述光捕获设备操作地耦接到所述计算设备，

其中，所述光捕获设备被配置为从所述反射表面接收反射光图案，并且

其中，所述计算设备被配置为对所述反射光图案执行图像分析，以便提供对所述反射表面的表面均匀度的估计，其中所述图像分析包括计算由所述反射光图案限定的多个反射多边形中的每个反射多边形的面积。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像分析包括将每个反射多边形的所述面积与预先确定的面积值进行比较，并且基于所述比较来生成多个均匀度等级。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述图像分析进一步包括将所述多个均匀度等级编译成二维阵列，以用于使所述多个均匀度等级可视化。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个断开连接的点中的每个点限定所述多个反射多边形中的每个反射多边形的拐角。

5.根据权利要求4所述的系统，其中计算所述面积包括确定所述多个断开连接的点中的每个点之间的距离。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述反射表面为便携式计算设备的外壳的一部分。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像分析包括将每个反射多边形的所述面积与预先确定的面积值进行比较，并且当所述面积基本上等于所述预先确定的面积值时，表征所述反射表面的所述反射多边形被入射在其上的所述一部分的均匀度指示符被存储在所述计算设备的存储器中。

8.一种确定设备外壳的表面的均匀度的系统，其特征在于，所述系统包括：

图像图案生成器，被配置成将光的布置投射到所述设备外壳的表面上；

图像捕获设备，被配置成对从所述表面投射的光的所述布置的反射进行采样，其中所述反射包括多个光点；

计算设备，操作地耦接到所述图像图案生成器和所述图像捕获设备，所述计算设备确定所述多个光点中的一个或多个光点的坐标；基于所述一个或多个光点的所述坐标来生成特征数据；基于所述特征数据来生成所述反射的一个或多个部分的均匀度等级；以及

耦接到所述计算设备的可视器，所述可视器被配置为显示均匀度等级的视觉表示，其中所述均匀度等级被编译成具有与光的所述布置对应的次序的等级阵列。

9.根据权利要求8所述的系统，其中光的所述布置包括被布置成一个或多个多边形的原始光点阵列。

10.根据权利要求8所述的系统，其中生成特征数据包括基于两个光点的坐标来确定所述两个光点之间的距离。

11.根据权利要求8所述的系统，其中生成特征数据包括确定由两个或更多个光点的坐标限定的轨迹的斜率。

12.根据权利要求8所述的系统，其中生成特征数据包括确定由三个或更多个光点的坐标限定的多边形的面积。

13.根据权利要求8所述的系统，其中所述均匀度等级包括以所述等级阵列布置的多个不同的视觉指示符。

14.根据权利要求8所述的系统，其中所述均匀度等级包括以所述等级阵列布置的一个或多个字母数字字符。

15.一种表面分析设备，其特征在于，所述表面分析设备用于分析计算设备外壳的表面，并且包括：

相机；

所述表面分析设备中操作地耦接到所述相机的至少一个处理器；和

存储指令的至少一个存储器，所述指令当由所述处理器执行时使得所述表面分析设备：

对与由所述相机接收的反射光量对应的图像数据进行采样；

确定所述反射光量的一个或多个形状中的每个形状的特征属性，其中所述一个或多个形状由光点限定；

将所述特征属性与阈值进行比较，其中所述阈值是用于所述表面的基本上均匀部分的指示符；

基于所述比较来生成所述一个或多个形状中的每个形状的特征值；以及

生成包括所述特征值的数据阵列。