[发明专利]用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统

摘要

一种调节系统，用于对准用于投射处于高达硬X射线范围的太赫兹范围内的电子辐射的真空中的光学元件和/或样品，包括：至少一个真空室、沿空间方向可调节的至少一个反射镜和/或光学元件或样品，其中设置有处于未偏转状态的平移致动器用于在最多三个基本相互垂直的空间方向调节至少一个反射镜和/或光学元件或样品的对准。所述真空室中的至少一个反射镜和/或光学元件或样品相对于所述真空室安装在固定位置，其中所述真空室直接或间接地与所述平移致动器相连接以用于对准所述反射镜和/或所述光学元件或所述样品的空间位置。该构造有助于真空室的非常紧凑和小巧的设计，并且实现了非常高精度的对准。

主权项

1.一种用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统(3)，所述调节系统包括：至少一个真空室(3”)，沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)，和/或沿空间方向可调节的至少一个光学元件，和/或沿空间方向可调节的至少一个样品，其中，所述调节系统设置有处于未偏转状态的平移致动器(X1，X2，Z1，Y，Z2，Z3)，用于在最多三个基本相互垂直的空间方向(X，Y，Z)上调节所述沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向可调节的至少一个光学元件或所述沿空间方向可调节的至少一个样品的对准，其特征在于，所述真空室(3”)中的所述沿空间方向(X，Y，Z，x，y，z)可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向(X，Y，Z，x，y，z)可调节的至少一个光学元件和/或所述沿空间方向可调节的至少一个样品相对于所述真空室(3”)安装在固定位置，其中，所述真空室(3”)直接或间接地与用于对准所述反射镜(3’)和/或所述光学元件或所述样品的空间位置的平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)相连接，其中用于三个平移自由度的所述平移致动器不以使得这三个平移自由度形成相交的连结点的方式作用在待调节的目标上，而是设置成：平移致动器(X1，X2，Z1，Z2)作用在假想的长方体的角部上，所述假想的长方体的容积容纳待调节的所述反射镜(3’)和/或所述光学元件和/或所述样品，不过也被包封在所述真空室(3”)中，其中为了改变所述反射镜(3’)、所述光学元件和/或所述样品相对于电磁辐射的空间定向，它们共同与整个真空室一起对准，其中平移致动器(X1，X2，Z1，Z2)从外部作用在所述真空室上。