[发明专利]用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统

权利要求书

1.一种用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统(3)，所述调节系统包括：

至少一个真空室(3”)，

沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)，和/或

沿空间方向可调节的至少一个光学元件，和/或

沿空间方向可调节的至少一个样品，

其中，所述调节系统设置有处于未偏转状态的平移致动器(X1，X2，Z1，Y，Z2，Z3)，用于在最多三个基本相互垂直的空间方向(X，Y，Z)上调节所述沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向可调节的至少一个光学元件或所述沿空间方向可调节的至少一个样品的对准，其特征在于，

所述真空室(3”)中的所述沿空间方向(X，Y，Z，x，y，z)可调节的至少一个反射镜(3’)和/或所述沿空间方向(X，Y，Z，x，y，z)可调节的至少一个光学元件和/或所述沿空间方向可调节的至少一个样品相对于所述真空室(3”)安装在固定位置，

其中，所述真空室(3”)直接或间接地与用于对准所述反射镜(3’)和/或所述光学元件或所述样品的空间位置的平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)相连接，其中

用于三个平移自由度的所述平移致动器不以使得这三个平移自由度形成相交的连结点的方式作用在待调节的目标上，而是设置成：

平移致动器(X1，X2，Z1，Z2)作用在假想的长方体的角部上，所述假想的长方体的容积容纳待调节的所述反射镜(3’)和/或所述光学元件和/或所述样品，不过也被包封在所述真空室(3”)中，其中

为了改变所述反射镜(3’)、所述光学元件和/或所述样品相对于电磁辐射的空间定向，它们共同与整个真空室一起对准，其中平移致动器(X1，X2，Z1，Z2)从外部作用在所述真空室上。

2.根据权利要求1所述的用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统，其特征在于，所述平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)经由弯曲部(FG)与所述真空室(3”)相连接。

3.根据权利要求1所述的用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统，其特征在于，所述平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)具有联接杆(K1，K2，K3，K4，K5)，并且经由所述联接杆与所述真空室(3”)相连接，所述联接杆每个均具有两个万向弯曲部。

4.根据权利要求1至3之一所述的用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统，其特征在于，对于第一平移(X)对准和第一旋转(z)对准，设置第一对平移致动器(X1，X2)，所述第一对平移致动器在未偏转状态下基本相互平行，和

对于第二平移(Z)对准和第二旋转(y)对准，设置第二对其他平移致动器(Z1，Z2)，所述第二对其他平移致动器在未偏转状态下基本相互平行，其中，在未偏转状态下，所述第一对平移致动器的空间方向朝向所述第二对其他平移致动器的空间方向基本垂直地对准，和

对于第三旋转对准(x)，设置另一平移致动器(Z3)，其中，在未偏转状态下，所述另一平移致动器的空间方向与所述第一对平移致动器(X1，X2)或第二对其他平移致动器(Z1，Z2)的空间方向基本平行，并且

其中，最多两个平移致动器(X2，Z1)的轴线形成相交的连结点。

5.根据权利要求1至3之一所述的用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统，其特征在于，所述反射镜(3’)或所述光学元件布置在所述真空室(3”)中，并且与所述真空室(3”)一起能够沿空间方向调节。

6.根据权利要求2或3所述的用于对准真空中的光学元件和样品以便投射光学辐射或电磁辐射的调节系统，其特征在于，所述平移致动器(X1，X2，Z1，Z2，Z3)均包括一个主轴驱动器(STX1，STX2，STZ1，STZ2，STZ3)，所述主轴驱动器通过马达(SMX1，SMX2，SMZ1，SMZ2，SMZ3)经由齿轮箱驱动并且将所述主轴驱动器的移位经由所述弯曲部(FG)中的至少一个弯曲部均传递到所述真空室(3”)的位置上。