[发明专利]具有偏置的同心凹槽图案的边缘排除区域的化学机械抛光抛光垫

摘要

本发明提供一种抛光垫及一种使用该抛光垫化学机械抛光基板的方法。该抛光垫至少包含凹槽区域及排除区域，其中该排除区域与该抛光垫的圆周相邻，且其中该排除区域不含凹槽。

主权项

1.一种抛光垫，其中该抛光垫的特征在于总体上圆形的横截面，其中该抛光垫包含旋转轴及抛光表面，其中该抛光表面至少包含凹槽区域及排除区域，其中该凹槽区域包含多个设置于该抛光表面中的凹槽，其中所述多个凹槽至少由多个具有第一同心中心的第一同心凹槽组成，其中该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心重合，其中该排除区域不含凹槽，其中该排除区域与该抛光垫的圆周相邻，其中该排除区域具有外边界及内边界，其中该排除区域的该外边界与该抛光垫的该圆周相接，且其中从该抛光垫的该圆周至该排除区域的内边界的距离大于零，其中所述多个凹槽进一步由多个具有第二同心中心的第二同心凹槽组成，其中该第一同心中心不与该第二同心中心重合，且其中该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心及该第二同心中心重合。