[发明专利]具有偏置的同心凹槽图案的边缘排除区域的化学机械抛光抛光垫

权利要求书

1.一种抛光垫，其中该抛光垫的特征在于总体上圆形的横截面，其中该抛光垫包含旋转轴及抛光表面，其中该抛光表面至少包含凹槽区域及排除区域，其中该凹槽区域包含多个设置于该抛光表面中的凹槽，其中所述多个凹槽至少由多个具有第一同心中心的第一同心凹槽组成，其中该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心重合，其中该排除区域不含凹槽，其中该排除区域与该抛光垫的圆周相邻，其中该排除区域具有外边界及内边界，其中该排除区域的该外边界与该抛光垫的该圆周相接，且其中从该抛光垫的该圆周至该排除区域的内边界的距离大于零，其中所述多个凹槽进一步由多个具有第二同心中心的第二同心凹槽组成，其中该第一同心中心不与该第二同心中心重合，且其中该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心及该第二同心中心重合。

2.根据权利要求1所述的抛光垫，其中从该抛光垫的该圆周至该排除区域的该内边界的平均距离用D_A表示，且其中D_A为0.1cm至2cm。

3.根据权利要求2所述的抛光垫，其中D_A为1cm至1.5cm。

4.根据权利要求2或3所述的抛光垫，其中D_A具有0.5或更小的标准偏差。

5.一种抛光垫，其中该抛光垫的特征在于总体上圆形的横截面，其中该抛光垫包含旋转轴及抛光表面，其中该抛光表面至少包含凹槽区域及排除区域，其中该凹槽区域包含多个设置于该抛光表面中的凹槽，其中所述多个凹槽至少由多个具有第一同心中心的第一同心或近似同心的多边形凹槽组成，其中该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心重合，其中该排除区域不含凹槽，其中该排除区域与该抛光垫的圆周相邻，其中该排除区域具有外边界及内边界，其中该排除区域的该外边界与该抛光垫的该圆周相接，且其中从该抛光垫的该圆周至该排除区域的该内边界的距离大于零，其中所述多个凹槽进一步由多个具有第二同心中心的第二同心或近似同心的多边形凹槽组成，其中该第一同心中心不与该第二同心中心重合，且该抛光垫的该旋转轴不与该第一同心中心及该第二同心中心重合。

6.根据权利要求5所述的抛光垫，其中从该抛光垫的该圆周至该排除区域的该内边界的平均距离用D_A表示，且其中D_A为0.1cm至2cm。

7.根据权利要求6所述的抛光垫，其中D_A为1cm至1.5cm。

8.根据权利要求6或7所述的抛光垫，其中D_A具有0.5或更小的标准偏差。

9.一种化学机械抛光基板的方法，该方法包括：

(a)使基板与化学机械抛光组合物及根据权利要求1-8中任一项所述的抛光垫接触，

(b)相对于该基板移动该抛光垫，其间具有该化学机械抛光组合物，及

(c)磨除该基板的至少一部分以抛光该基板。

10.根据权利要求9所述的方法，其中该基板的表面上的缺陷数低于在相同抛光条件下使用不含有该排除区域的在其它方面相同的抛光垫时的该基板的该表面上的缺陷数。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中该基板包含铜，且其中将该铜中的至少一些自该基板移除以抛光该基板。