[发明专利]用于激光释放的激光扫描系统有效

专利信息
申请号: 201480055829.X 申请日: 2014-05-09
公开(公告)号: CN105636739B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: D·C·米尔恩;P·T·路姆斯比 申请(专利权)人: 万佳雷射有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;B23K26/082
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 徐川,姚开丽
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及激光扫描系统及相关的方法。在公开的设置中,该方法包括使用激光源产生激光束;使用扫描模块以使所述激光束在基底的表面上扫描;以及使用重定向单元以控制所述激光束在所述基底上的入射方向,所述重定向单元位于所述激光束在所述扫描模块与所述基底之间的光路中的一位置处,其中使所述激光束在所述基底的预定的区域上扫描,使得所述区域的每个部分都被所述激光束从多个不同的入射方向曝光。
搜索关键词: 用于 激光 释放 扫描 系统
【主权项】:
一种用于使激光束在基底的表面上扫描的激光扫描系统,包括:基底;激光源,用于产生激光束;基底台,用于支撑所述基底;扫描模块,包含可编程光学器件,所述可编程光学器件用于选择性重定向所述激光束;以及控制模块,用于对所述扫描模块进行控制,以使所述激光束在所述基底的表面上扫描,其中,所述基底包括载体层,所述载体层经由激光释放层附连到产品层,所述激光束被配置为使得所述激光束对所述激光释放层的材料的照射对于使得在照射的区域中产品层从所述载体层释放是有效的,所述激光扫描系统还包括重定向单元,位于所述激光束在所述扫描模块与所述基底之间的光路中的一位置处,所述重定向单元被配置为控制所述激光束在所述基底上的入射方向,以及所述控制模块和所述重定向单元被配置为使所述激光束在所述基底的预定的区域上扫描,使得所述区域的每个部分都被所述激光束从多个不同的入射方向曝光。
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