[发明专利]用于激光释放的激光扫描系统有效

专利信息
申请号: 201480055829.X 申请日: 2014-05-09
公开(公告)号: CN105636739B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: D·C·米尔恩;P·T·路姆斯比 申请(专利权)人: 万佳雷射有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;B23K26/082
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 徐川,姚开丽
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 激光 释放 扫描 系统
【权利要求书】:

1.一种用于使激光束在基底的表面上扫描的激光扫描系统,包括:

基底;

激光源,用于产生激光束;

基底台,用于支撑所述基底;

扫描模块,包含可编程光学器件,所述可编程光学器件用于选择性重定向所述激光束;以及

控制模块,用于对所述扫描模块进行控制,以使所述激光束在所述基底的表面上扫描,

其中,所述基底包括载体层,所述载体层经由激光释放层附连到产品层,所述激光束被配置为使得所述激光束对所述激光释放层的材料的照射对于使得在照射的区域中产品层从所述载体层释放是有效的,

所述激光扫描系统还包括重定向单元,位于所述激光束在所述扫描模块与所述基底之间的光路中的一位置处,所述重定向单元被配置为控制所述激光束在所述基底上的入射方向,以及

所述控制模块和所述重定向单元被配置为使所述激光束在所述基底的预定的区域上扫描,使得所述区域的每个部分都被所述激光束从多个不同的入射方向曝光。

2.根据权利要求1所述的系统,其中,

所述重定向单元包括第一重定向元件和第二重定向元件,所述第一重定向元件的定向不同于所述第二重定向元件;以及

所述控制模块被配置为经由所述第一重定向元件使所述激光束在所述基底的区域上扫描,以从第一入射方向曝光所述区域的每个部分,并经由所述第二重定向元件使所述激光束在所述基底的区域上扫描,以从与所述第一入射方向不同的第二入射方向曝光所述区域的每个部分。

3.根据权利要求2所述的系统,其中,所述第一重定向元件和所述第二重定向元件具有平面式的反射表面。

4.根据权利要求3所述的系统,其中,所述第一重定向元件的反射表面的法线的与所述基底台的表面平行的分量与所述第二重定向元件的反射表面的法线的与所述基底台的表面平行的分量呈一除180度之外的角度。

5.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中:

所述重定向单元包括可在第一位置与第二位置之间移动的重定向元件,所述重定向元件在所述第一位置处的定向和在所述第二位置处的定向不同;

所述控制模块被配置为经由所述第一位置处的重定向元件在所述基底的区域上扫描,以从第一入射方向曝光所述区域的每个部分,并经由所述第二位置处的重定向元件在所述基底的区域上扫描所述激光束,以从与所述第一入射方向不同的第二入射方向曝光所述区域的每个部分。

6.根据权利要求2-4中任一项所述的激光扫描系统,其中,所述重定向元件中的一个或每个重定向元件被配置为通过反射、折射或衍射来改变所述激光束的传播方向。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的激光扫描系统,其中:

所述基底台被配置为在所述激光束的扫描过程中移动所述基底;以及

所述控制模块被配置为在所述基底在第一移动方向上移动的同时从第一入射方向曝光所述区域的每个部分,并随后在所述基底在不同于所述第一移动方向的第二移动方向上移动的同时从不同于所述第一入射方向的第二入射方向曝光所述区域的每个部分。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的激光扫描系统,其中:

所述基底台被配置为在所述激光束的扫描过程中移动所述基底;以及

所述控制模块被配置为在所述基底仅在单个移动方向上移动的时段内从多个不同的方向曝光所述区域的每个部分。

9.根据权利要求8所述的激光扫描系统,其中,所述控制模块被配置为在所述基底在所述单个扫描方向上移动的同时使所述激光束相对于所述激光源在两个不同的方向上线性地扫描,每个方向倾斜于所述单个移动方向。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的系统,其中,所述激光源包括二极管泵浦固体激光器模块。

11.根据权利要求中1-4任一项所述的系统,其中,所述激光束的波长处于UV波段。

12.根据权利要求1-4中任一项所述的系统,进一步包括:

可编程的偏振器,用于选择性地改变所述激光束的偏振,其中:

所述控制模块被配置为使所述偏振器根据所述激光束在所述基底上的入射方向来改变所述激光束的偏振。

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