[发明专利]多模态成像装置有效

专利信息
申请号: 201480052994.X 申请日: 2014-09-18
公开(公告)号: CN105592795B 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: P·J·达席尔瓦罗德里格斯;A·M·A·特林达德罗德里格斯;H·K·维乔雷克;G·福格特米尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01T1/16;G01T1/29
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种用于对对象中的过程进行成像的多模态成像装置,包括:闪烁体,其包括闪烁体元件,以用于捕获由放射性示踪剂生成的入射伽马量子并响应于捕获的伽马量子发射闪烁光子;光电探测器,其包括光敏元件,以用于捕获所发射的闪烁光子并确定闪烁光子的空间分布;以及读取电子器件,其用于基于闪烁光子的空间分布来确定入射伽马量子在闪烁体中的撞击位置和/或指示伽马量子在对象中的发射点的参数。成像装置被配置为在用于探测低能伽马量子的第一操作模式与用于探测高能伽马量子的第二操作模式之间切换。高能伽马量子具有比低能伽马量子更高的能量。闪烁体被布置为在第一操作模式中和在第二操作模式中捕获来自相同的感兴趣区的入射伽马量子。
搜索关键词: 多模态 成像 装置
【主权项】:
1.一种用于对对象(23)内的放射性示踪剂分布进行成像的多模态成像装置(1a、1b),所述多模态成像装置(1a、1b)包括:闪烁体(3),其包括闪烁体元件(31),所述闪烁体元件用于捕获由所述放射性示踪剂生成的入射伽马量子(25、61),并且用于响应于所述捕获的伽马量子(25、61)发射闪烁光子(26);光电探测器(5),其包括光敏元件(33),所述光敏元件用于捕获所发射的闪烁光子(26),并且用于确定所述闪烁光子的空间分布;以及读取电子器件(7),其用于基于所述闪烁光子的所述空间分布来确定入射伽马量子在所述闪烁体(3)中的撞击位置和/或确定指示所述伽马量子(25、61)在所述对象(23)中的发射点的参数,其中,所述多模态成像装置(1a、1b)还包括定位机构(35),所述定位机构用于改变所述闪烁体元件(31)的取向和/或位置,尤其是用于将所述闪烁体元件(31)倾斜,以将所述多模态成像装置(1a、1b)在用于探测低能伽玛量子的第一操作模式与用于探测高能伽玛量子的第二操作模式之间进行切换,其中,所述高能伽玛量子具有比所述低能伽玛量子更高的能量;并且其中,所述闪烁体(3)被布置为在所述第一操作模式中和在所述第二操作模式中捕获来自相同的感兴趣区(65)的入射伽马量子(25、61)。
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