[发明专利]多模态成像装置

权利要求书

1.一种用于对对象(23)内的放射性示踪剂分布进行成像的多模态成像装置(1a、1b)，所述多模态成像装置(1a、1b)包括：

闪烁体(3)，其包括闪烁体元件(31)，所述闪烁体元件用于捕获由所述放射性示踪剂生成的入射伽马量子(25、61)，并且用于响应于所述捕获的伽马量子(25、61)发射闪烁光子(26)；

光电探测器(5)，其包括光敏元件(33)，所述光敏元件用于捕获所发射的闪烁光子(26)，并且用于确定所述闪烁光子的空间分布；以及

读取电子器件(7)，其用于基于所述闪烁光子的所述空间分布来确定入射伽马量子在所述闪烁体(3)中的撞击位置和/或确定指示所述伽马量子(25、61)在所述对象(23)中的发射点的参数，

其中，所述多模态成像装置(1a、1b)还包括定位机构(35)，所述定位机构用于改变所述闪烁体元件(31)的取向和/或位置，尤其是用于将所述闪烁体元件(31)倾斜，以将所述多模态成像装置(1a、1b)在用于探测低能伽玛量子的第一操作模式与用于探测高能伽玛量子的第二操作模式之间进行切换，其中，所述高能伽玛量子具有比所述低能伽玛量子更高的能量；并且

其中，所述闪烁体(3)被布置为在所述第一操作模式中和在所述第二操作模式中捕获来自相同的感兴趣区(65)的入射伽马量子(25、61)。

2.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，其中，所述闪烁体(3)包括闪烁体元件(31)的阵列，所述阵列包括第一区域和第二区域，所述第一区域对应于在具有用于捕获低能伽马量子的低能闪烁体元件(29)的所述第一操作模式中所述阵列的面向所述感兴趣区(65)的二维区，所述第二区域对应于在具有用于捕获高能伽马量子的高能闪烁体元件(27)的所述第二操作模式中所述阵列的面向所述感兴趣区(65)的二维区。

3.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，其中，所述低能伽马量子和所述高能伽马量子两者的能量在于70keV与600keV之间。

4.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，还包括公共机架(11)，其用于在所述第一操作模式中和在所述第二操作模式中支撑所述闪烁体(3)和所述光电探测器(5)。

5.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，还包括准直器(21)，其用于在所述第一操作模式中基于入射角来对所述入射伽马量子(25、61)进行滤波。

6.根据权利要求2所述的多模态成像装置(1a、1b)，其中，

所述光电探测器(5)被配置用于以光子计数模式进行操作，其中，所述光电探测器的动态范围被配置为捕获由所述高能闪烁体元件(27)和由所述低能闪烁体元件(29)两者发射的闪烁光子。

7.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，其中，

光敏元件(33)被耦合到闪烁体元件(31)并且被布置为捕获由所述闪烁体元件(31)发射的所述闪烁光子(26)；并且

所述定位机构(35)被配置为改变所述闪烁体元件(31)和被耦合到所述闪烁体元件的光敏元件(33)的取向和/或位置，尤其是被配置为将所述闪烁体元件(31)和被耦合到所述闪烁体元件的光敏元件(33)倾斜，以将所述多模态成像装置(1a、1b)在所述第一操作模式与所述第二操作模式之间进行切换。

8.根据权利要求1所述的多模态成像装置(1a、1b)，其中，

光敏元件(33)被耦合到闪烁体元件(31)并且被布置为捕获由所述闪烁体元件(31)发射的所述闪烁光子(26)；

所述闪烁体元件(31)的子集和被耦合到所述子集的光敏元件(33)被机械地耦合以形成探测组件(43)；并且

所述定位机构(35)被配置为改变所述探测组件的位置和/或取向，尤其是被配置为将所述探测组件(43)倾斜，以将所述多模态成像装置(1a、1b)在所述第一操作模式与所述第二操作模式之间进行切换。