[发明专利]用于保护EUV光学元件的设备有效
| 申请号： | 201480048742.X | 申请日： | 2014-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN105518530B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | A·I·厄肖夫;J·伯克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种设备，包括具有内壁的室和在室内的区域，当设备处于操作中时污染材料从该区域发出。多个叶片被定位在内壁的一部分上，每个叶片具有沿着在叶片与区域之间的方向被定向的第一表面和与第一表面相邻的第二表面，第二表面被定向成使撞击第二表面的污染材料远离区域偏转，第二表面被确定尺寸并且相对于彼此被并列放置以使得第二表面基本上防止污染材料撞击内壁的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 保护 euv 光学 元件 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于保护EUV光学元件的设备，包括：具有内壁的室；在所述室内的区域，当所述设备处于操作中时污染材料从所述区域发出；被定位在所述内壁的一部分上的多个叶片，每个所述叶片具有沿着在所述叶片与所述区域之间的方向被定向的第一表面和与所述第一表面相邻的第二表面，所述第二表面被定向成使撞击所述第二表面的所述污染材料远离所述区域偏转，所述第二表面被确定尺寸并且相对于彼此被并列放置，使得所述第二表面基本上防止所述污染材料撞击所述内壁的所述一部分。
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