[发明专利]用于生产抗反射涂层的包含基于硅化合物的缩合物的水性组合物的方法有效
| 申请号： | 201480034850.1 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105358639B | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 克劳斯-迪特尔·弗里切;格哈德·唐克 | 申请（专利权）人： | 费柔股份有限公司 |
| 主分类号： | C09D183/02 | 分类号： | C09D183/02 |
| 代理公司： | 11111 北京市万慧达律师事务所 | 代理人： | 吴晓辉;王蕊<国际申请>=PCT/EP2 |
| 地址： | 德国法*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于生产包含基于硅化合物的缩合物的水性组合物的方法，其包括下列步骤：i)将至少一种聚合物流变学控制剂引入水中；ii)添加至少一种酸性催化剂；iii)添加至少一种通式(I)RnSiX4‑n硅化合物，其中所述残基X相同或不同且表示可水解基团或羟基，所述残基R相同或不同且表示不可水解基团，且n为0、1、2或3；以及iv)执行于步骤iii)中加入的所述通式(I)硅化合物的至少一部分的水解反应。本发明还涉及可借助于根据本发明的方法而获得的组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 反射 涂层 包含 基于 化合物 缩合 水性 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于生产包含基于硅化合物的缩合物的水性组合物的方法，其包括下列步骤：/ni)将至少一种聚合物流变学控制剂引入水中；/nii)添加至少一种酸性催化剂；/niii)添加至少一种通式(I)硅化合物/nRnSiX4-n(I)，/n其中所述残基X相同或不同且表示可水解基团或羟基，所述残基R相同或不同且表示不可水解基团且n为0、1、2或3；以及/niv)执行于步骤iii)中加入的所述通式(I)硅化合物的至少一部分的水解反应，/n其中，基于步骤iii)中获得的混合物，通式(I)硅化合物的量在0.1重量％至5重量％范围内，且步骤iii)中获得的混合物包含70重量％至99.79重量％的水和流变学控制剂，/n其中，水性组合物用于制备抗反射涂层，/n且其中，在已执行步骤iv)后，将表面活性物质添加至所述组合物，基于在添加表面活性物质后组合物的总重量，组合物中表面活性物质的比例在0.005重量％至2重量％范围内。/n
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
