[发明专利]用于生产抗反射涂层的包含基于硅化合物的缩合物的水性组合物的方法

权利要求书

1.一种用于生产包含基于硅化合物的缩合物的水性组合物的方法，其包括下列步骤：

i)将至少一种聚合物流变学控制剂引入水中；

ii)添加至少一种酸性催化剂；

iii)添加至少一种通式(I)硅化合物

R_nSiX_4-n(I)，

其中所述残基X相同或不同且表示可水解基团或羟基，所述残基R相同或不同且表示不可水解基团且n为0、1、2或3；以及

iv)执行于步骤iii)中加入的所述通式(I)硅化合物的至少一部分的水解反应，

其中，基于步骤iii)中获得的混合物，通式(I)硅化合物的量在0.1重量％至5重量％范围内，且步骤iii)中获得的混合物包含70重量％至99.79重量％的水和流变学控制剂，

其中，水性组合物用于制备抗反射涂层，

且其中，在已执行步骤iv)后，将表面活性物质添加至所述组合物，基于在添加表面活性物质后组合物的总重量，组合物中表面活性物质的比例在0.005重量％至2重量％范围内。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，表面活性剂为聚醚改性的硅氧烷。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，以序列i)、ii)、iii)和iv)进行步骤i)、ii)、iii)和iv)。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，流变学控制剂具有在1000至2000000g/mol范围内的分子量M_w。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于步骤i)中获得的混合物的重量，流变学控制剂的量在0.1重量％至40重量％范围内。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述流变学控制剂为聚丙烯酰胺、纤维素或纤维素衍生物。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，使用至少一种式SiX₄硅化合物，其中所述残基X相同或不同且表示可水解基团或羟基。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于通式(I)硅化合物的总量，根据式SiX₄的硅化合物的比例在80重量％至100重量％范围内。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，至少一种通式(I)硅化合物选自由Si(OCH₃)₄、Si(OC₂H₅)₄和Si(OC₃H₇)₄，及其组合组成的组。

10.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，至少一种通式(I)硅化合物选自由Si(OCH₃)₄、Si(OC₂H₅)₄和Si(OC₃H₇)₄，及其组合组成的组。