[发明专利]晶片载体和使用该晶片载体的外延生长装置有效

专利信息
申请号: 201480032124.6 申请日: 2014-05-14
公开(公告)号: CN105264653B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 伊藤敏树 申请(专利权)人: 揖斐电株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/205
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供晶片载体和使用该晶片载体的外延生长装置,能够不容易从与主轴结合的结合部即结合孔产生颗粒,并且即使产生颗粒也不容易扩散且能够容易地去除。晶片载体具有上表面,其具有用于保持晶片的一个以上的腔室;下表面,其在中心具有结合孔,该结合孔用于以能够取下的方式插入旋转主轴的上端;以及外周部,其连接该上表面和该下表面,其中,所述结合孔由从上表面侧朝向下表面侧扩大的锥状的壁面构成,具有贯通孔。
搜索关键词: 晶片 载体 使用 外延 生长 装置
【主权项】:
一种晶片载体,其由基材和陶瓷覆膜构成,该基材由石墨构成,且具有:上表面,其具有用于保持晶片的一个以上的腔室;下表面,其在中心具有结合孔,该结合孔用于以能够取下的方式插入旋转主轴的上端;以及外周部,其连接所述上表面和所述下表面,该陶瓷覆膜至少覆盖所述上表面、所述下表面和所述外周部,其特征在于,所述结合孔由从上表面侧朝向下表面侧扩大的锥状的壁面、以及中央部比与所述壁面之间的边界深的底面构成,所述底面具有从与所述壁面之间的边界延伸的锥面。
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