[发明专利]离子植入机与用于控制其中离子束的系统有效
| 申请号： | 201480031930.1 | 申请日： | 2014-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN105264633B | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 斯坦尼斯拉夫·S·托多罗夫;乔治·M·葛梅尔;理查·艾伦·斯普林克;诺曼·E·赫西;法兰克·辛克莱;常胜武;约瑟·C·欧尔森;大卫·罗杰·汀布莱克;库尔·T·岱可-路克 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/304 | 分类号： | H01J37/304;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨贝贝,臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种离子植入机与用于控制离子植入机中的离子束的系统，包括检测系统与分析组件。检测系统用于检测在第一频率的离子束的多个束电流量测。分析组件用于判定基于多个束电流量测的离子束的变化，所述变化对应于在第二频率的离子束的束电流变化，所述第二频率不同于所述第一频率。所述系统也包括回应于分析组件的输出而调整离子束的调整组件以减少所述变化，其中当离子植入机中产生离子束时，所述分析组件与所述调整组件经设置以动态地将离子束的变化减少至低于阀值。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 离子 植入 均匀 装置 技术 | ||
【主权项】：
一种在离子植入机中控制离子束的系统，包括：检测系统，用于检测在第一频率的所述离子束的多个束电流量测；分析组件，用于基于所述多个束电流量测来判定所述离子束的变化，所述变化对应于在不同于所述第一频率的第二频率的所述离子束的束电流变化；以及调整组件，用于回应所述分析组件的输出而调整所述离子束以减少所述变化，其中当所述离子植入机中产生所述离子束时，所述分析组件与所述调整组件经设置以在不停止产生所述离子束至基板的情况下动态地将所述离子束的所述变化减少至低于阀值。
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