[发明专利]离子植入机与用于控制其中离子束的系统

权利要求书

1.一种在离子植入机中控制离子束的系统，包括：

检测系统，用于检测在第一频率的所述离子束的多个束电流量测；

分析组件，用于基于所述多个束电流量测来判定所述离子束的变化，所述变化对应于在不同于所述第一频率的第二频率的所述离子束的束电流变化；以及

调整组件，用于回应所述分析组件的输出而调整所述离子束以减少所述变化，其中当所述离子植入机中产生所述离子束时，所述分析组件与所述调整组件经设置以在不停止产生所述离子束至基板的情况下动态地将所述离子束的所述变化减少至低于阀值。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述分析组件经设置以：

基于所述多个束电流量测的离散傅立叶转换来产生频域功率光谱；以及

基于所述频域功率光谱中的经确认的频域峰来判定所述离子束的所述变化。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述分析组件经设置以：

计算所述频域峰的优值，其中所述优值等于包含于所述频域峰中的功率对所述频域功率光谱中的总功率的比例；

比较所述经确认的频域峰的所述优值与阀；以及

当所述经确认的频域峰的所述优值超过所述阀时，标示用于调整的所述离子植入机的参数。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测系统包括：

电流检测器，配置于所述离子植入机中的第一位置，且经设置以检测束电流来进行所述多个束电流量测；以及

阻挡组件，配置于所述电流检测器的上游，所述阻挡组件经设置以：

当所述离子束的尺寸以及所述离子束的束位置在各自的束尺寸限制与束位置限制之内时，传输所有的所述离子束；以及

当所述离子束的所述尺寸超过所述束尺寸限制或所述离子束的所述束位置超过所述束位置限制时，拦截部分所述离子束。

5.根据权利要求4所述的系统，还包括束导向控制器，经设置以将所述离子束导向至所述阻挡组件。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一频率大于16Hz。

7.根据权利要求1所述的系统，其中取样操作、所述离子束的所述变化的所述判定以及束调整一同构成束调整循环，其中所述系统经设置以进行所述束调整循环，直到所述离子束的所述变化低于阀值。

8.根据权利要求7所述的系统，其中在预定数目的所述束调整循环之后，当所述离子束的所述变化超过阀值，则所述分析组件经设置以终止离子植入制程。

9.一种离子植入机，包括：

离子源，用于产生离子束；

检测系统，用于检测在第一频率的所述离子束的多个束电流量测；以及

控制器，用于基于所述多个束电流量测来判定所述离子束的变化，所述离子束的所述变化对应于在不同于所述第一频率的第二频率的所述离子束的束电流变化，以及所述控制器，用于当所述离子束的所述变化超越阀值时，在不停止产生所述离子束至基板的情况下在离子植入机中产生用于进行参数调整的信号。

10.根据权利要求9所述的离子植入机，其中所述控制器，用于基于来自所述多个束电流量测的离子电流强度的离散傅立叶转换来产生频域功率光谱，以及所述控制器，用于基于所述频域功率光谱中的经确认的频域峰来判定所述离子束的所述变化。

11.根据权利要求10所述的离子植入机，其中所述控制器，用于基于所述频域峰的功率来计算所述频域峰的优值；比较所述经确认的频域峰的所述优值与阀；并且当所述经确认的频域峰的所述优值超过所述阀时，指示调整组件进行束调整。

12.根据权利要求10所述的离子植入机，其中所述控制器，用于将所述离子束导向至所述检测系统的阻挡组件，

所述阻挡组件配置于所述检测系统的电流检测器的上游，且经设置以

当束尺寸以及束位置在各自的束尺寸限制与束位置限制之内时，传输所有的所述离子束；以及

当所述束尺寸及/或所述束位置超过所述各自的束尺寸限制及/或所述束位置限制时，拦截部分所述离子束。

13.根据权利要求10所述的离子植入机，其中所述第一频率大于16Hz。