[发明专利]功率兼容性更高的溅射靶

摘要

本发明涉及板定中系统，包括带有支座的板，其中该板在支座中在室温和较高温度下都与所述板和支座的热胀无关地被定中，并且该板能在支座中在较高温度下自由膨胀。本发明尤其涉及具有框形靶架的靶，其非常适合用作在用于高功率脉冲磁控溅射的涂覆源中。

主权项

一种作为用于PVD涂层的材料供体的涂覆源，其包括：a)安置在支座内的板，该板具有板正面和板背面以及定中机构，其中，所述支座包括用于容纳所述板的框形靶架，所述板是靶，该板正面设置用于在PVD过程中将层材料从表面转变至气相，并且该定中机构设计成：在不同板温度时保证定中，b)设置在该板背面上的具有冷却通道和闭合冷却板的冷却装置，该闭合冷却板呈活动膜状，其中，为了保证在所述板背面和膜之间的良好热接触，将自粘的石墨膜粘附到该板背面上，其中，在该支座上和在该冷却装置上设有卡口接合的元件，因而该支座连同被定中的板借助该卡口接合被固定到该冷却装置，其中，为了保持该靶，分别在靶和靶架内设有至少三个相互间隔的导向成形部和/或槽，以便当该靶被安放到靶架上时所述靶的和/或所述靶架的导向成形部分别嵌入所述靶架的和/或所述靶的对应槽中，其中，“导向成形部‑槽”配对如此分布，即，在每个“导向成形部‑槽”配对中，该槽的宽度中心位置与对应的导向成形部的宽度中心位置重合，并且如此选择该位置，即该位置在室温下处于靶中心的一个轴向上，在所述靶和/或所述靶架在较高温度下热胀之后保持不变地处于靶中心的相同轴向上，其中该板的材料具有第一热胀系数α1，该支座的材料具有第二热胀系数α2，在此α1>α2。