[发明专利]具有整体式真空辅助软管存储系统的真空清洁系统和方法

摘要

一种用于真空清洁系统的存储系统，其具有软管存储结构，该软管存储结构限定存储室，该存储室具有存储室入口端口和存储室出口，该存储室出口操作性地连接到共同室，该共同室操作性地连接到真空。该存储室限定室横截面区域。该软管端部载体限定载体横截面区域，其中该载体横截面区域略微小于该室横截面区域。该软管构件限定软管横截面区域，其中该软管构件横截面区域相对于载体横截面区域被设计大小和尺寸以促进软管构件沿存储室的移动。

主权项

一种真空清洁系统，所述真空清洁系统包括：真空系统，所述真空系统包括真空组件，入口结构，所述入口结构限定真空入口端口和共同室，以及碎片室结构，所述碎片室结构限定碎片室，其中，所述真空组件的操作将空气吸过所述真空入口端口、所述共同室以及所述碎片室；软管组件，所述软管组件包括软管构件和软管端部载体，其中，所述软管组件适合于以可分离的方式附接到所述真空入口端口；以及软管存储系统，所述软管存储系统包括软管存储结构，所述软管存储结构限定存储室，所述存储室具有存储室入口端口和存储室出口，所述存储室出口操作性地连接到所述共同室，其中，所述存储室的至少一个转弯部分位于存储室入口端口和存储室出口之间；其中所述存储室限定室参考距离；所述软管端部载体限定载体参考距离，其中，载体横截面区域略微小于所述室参考距离；所述软管构件限定软管近侧端部；软管端部载体与所述软管近侧端部间隔开；并且所述软管构件限定软管参考距离，其中，所述载体参考距离的大小和尺寸相对于软管构件参考距离而被设计以促进所述软管近侧端部移动通过所述至少一个转弯部分。