[发明专利]具有整体式真空辅助软管存储系统的真空清洁系统和方法

权利要求书

1.一种真空清洁系统，所述真空清洁系统包括：

真空系统，所述真空系统包括

真空组件，

入口结构，所述入口结构限定真空入口端口和共同室，以及

碎片室结构，所述碎片室结构限定碎片室，其中，所述真空组件的操作将空气吸过所述真空入口端口、所述共同室以及所述碎片室；

软管组件，所述软管组件包括软管构件和软管端部载体，其中，所述软管组件适合于以可分离的方式附接到所述真空入口端口；以及

软管存储系统，所述软管存储系统包括软管存储结构，所述软管存储结构限定存储室，所述存储室具有存储室入口端口和存储室出口，所述存储室出口操作性地连接到所述共同室，其中，所述存储室的至少一个转弯部分位于存储室入口端口和存储室出口之间；

其中

所述存储室限定室参考距离；

所述软管端部载体限定载体参考距离，其中，载体横截面区域略微小于所述室参考距离；

所述软管构件限定软管近侧端部；

软管端部载体与所述软管近侧端部间隔开；并且

所述软管构件限定软管参考距离，其中，所述载体参考距离的大小和尺寸相对于软管构件参考距离而被设计以促进所述软管近侧端部移动通过所述至少一个转弯部分。

2.如权利要求1中所述的真空清洁系统，其中，所述软管存储结构至少包括第一部件、第二部件和第三部件，所述第一部件、第二部件和第三部件被组装用来限定所述存储室的第一部分和第二部分，其中，所述第一部分和第二部分沿竖向相互间隔开。

3.如权利要求2中所述的真空清洁系统，其中，所述第一部分和第二部分中的至少一者是蜿蜒型的。

4.如权利要求1中所述的真空清洁系统，其中，所述载体参考距离在比所述软管参考距离大15％和40％之间的范围内。

5.如权利要求1中所述的真空清洁系统，其中，所述载体参考距离在比所述软管参考距离大15％和150％之间的范围内。

6.如权利要求1中所述的真空清洁系统，其中，控制系统被构造用来当所述软管端部载体进入所述存储室入口端口时接通所述真空组件并且当所述软管端部载体到达所述存储室出口时断开所述真空组件。

7.如权利要求6中所述的真空清洁系统，还包括门，所述门被构造用来当所述软管端部载体进入所述存储室时打开，其中，所述控制系统当所述门打开时接通所述真空组件。

8.一种真空清洁系统，所述真空清洁系统包括：

真空系统，所述真空系统包括

真空组件，

入口结构，所述入口结构限定真空入口端口和共同室，以及

碎片室结构，所述碎片室结构限定碎片室，其中

所述真空组件的操作将空气吸过所述真空入口端口、所述共同室以及所述碎片室；

软管组件，所述软管组件适合于以可分离的方式附接到所述真空入口端口；以及

软管存储系统，所述软管存储系统包括软管存储结构，所述软管存储结构限定存储室，所述存储室具有存储室入口端口和存储室出口，所述存储室出口操作性地连接到所述共同室；

其中

所述软管存储结构至少包括第一部件、第二部件和第三部件，所述第一部件、第二部件和第三部件被组装用来限定所述存储室的第一部分和第二部分，其中，第一参考平面和第二参考平面分别延伸通过所述第一部分和第二部分并且相互并列。

9.如权利要求8中所述的真空清洁系统，其中，所述第一部分和第二部分中的至少一者是蜿蜒型的。

10.如权利要求8中所述的真空清洁系统，其中，控制系统被构造用来当所述软管端部载体进入所述存储室入口端口时接通所述真空组件并且当所述软管端部载体到达所述存储室出口时断开所述真空组件。

11.如权利要求10中所述的真空清洁系统，还包括门，所述门被构造用来当所述软管端部载体进入所述存储室时打开，其中，所述控制系统当所述门打开时接通所述真空组件。