[发明专利]对于利用用于化学机械抛光的晶片及晶片边缘/斜角清洁模块的盘/垫清洁的设计

摘要

提供一种用于在化学机械平面化(chemical mechanical planarizing；CMP)之后清洁基板的方法及装置。该装置包括外壳；基板保持器，该基板保持器可在第一轴线上旋转且被配置成以基本上垂直的取向保持基板；第一垫保持器，该第一垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向基板保持器的垫保持表面，该第一垫保持器可在可平行于第一轴线旋转的第二轴上旋转；第一致动器，该第一致动器可操作以相对于基板保持器移动垫保持器以改变在第一轴线与第二轴线之间所限定的距离；以及第二垫保持器，该第二垫保持器设置在外壳中，该第二垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向基板保持器的垫保持表面，其中该第二垫保持器与旋转臂耦接。

主权项

一种粒子清洁模块，包括：外壳；基板保持器，所述基板保持器设置在所述外壳中，所述基板保持器被配置成以垂直的取向保持基板，所述基板保持器可在第一轴线上旋转；第一垫保持器，所述第一垫保持器设置在所述外壳中，所述第一垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向所述基板保持器的垫保持表面，所述第一垫保持器可在平行于所述第一轴线的第二轴线上旋转；第一致动器，所述第一致动器可操作以相对于所述基板保持器移动所述第一垫保持器以改变在所述第一轴线与所述第二轴线之间所限定的距离；第二垫保持器，所述第二垫保持器设置在所述外壳中，所述第二垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向所述基板保持器的垫保持表面，所述第二垫保持器可在与所述第一轴线及所述第二轴线平行的第三轴线上旋转；以及旋转臂组件，包括：旋转臂，所述旋转臂与所述第一垫保持器耦接并且可操作以用于跨基板的表面扫掠所述第一垫保持器；以及横向致动器机构，所述横向致动器机构用于朝向所述基板保持器移动所述旋转臂。