[发明专利]对于利用用于化学机械抛光的晶片及晶片边缘/斜角清洁模块的盘/垫清洁的设计

权利要求书

1.一种粒子清洁模块，包括：

外壳；

基板保持器，所述基板保持器设置在所述外壳中，所述基板保持器被配置成以垂直的取向保持基板，所述基板保持器可在第一轴线上旋转；

第一垫保持器，所述第一垫保持器设置在所述外壳中，所述第一垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向所述基板保持器的垫保持表面，所述第一垫保持器可在平行于所述第一轴线的第二轴线上旋转；

第一致动器，所述第一致动器可操作以相对于所述基板保持器移动所述第一垫保持器以改变在所述第一轴线与所述第二轴线之间所限定的距离；

第二垫保持器，所述第二垫保持器设置在所述外壳中，所述第二垫保持器具有以平行且间隔开的关系面向所述基板保持器的垫保持表面，所述第二垫保持器可在与所述第一轴线及所述第二轴线平行的第三轴线上旋转；以及

旋转臂组件，包括：

旋转臂，所述旋转臂与所述第一垫保持器耦接并且可操作以用于跨基板的表面扫掠所述第一垫保持器；以及

横向致动器机构，所述横向致动器机构用于朝向所述基板保持器移动所述旋转臂。

2.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

第三垫保持器，所述第三垫保持器设置在所述外壳中，所述第三垫保持器具有用于保持调节盘的垫保持表面，所述调节盘用于调节由所述第二垫保持器所保持的第二垫，所述第三垫保持器可在与所述第一轴线及所述第二轴线平行的第四轴线上旋转。

3.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述第二垫保持器的所述垫保持表面被定位成接触基板的排除区域及/或边缘部分。

4.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

第二致动器，所述第二致动器可操作以相对于所述基板保持器移动所述第二垫保持器以改变在所述第一轴线与所述第三轴线之间所限定的距离。

5.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

基板接收器，所述基板接收器设置在所述外壳中，所述基板接收器具有被配置成接收基板的基板接收槽。

6.如权利要求5所述的粒子清洁模块，其中所述基板接收器是可操作的以在与所述基板的中心线对准的第一位置和脱离所述基板的第二位置之间移动。

7.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述第一垫保持器具有小于所述基板保持器的直径的直径。

8.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述第二垫保持器具有小于所述基板保持器的直径的直径。

9.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述第二垫保持器具有为所述基板保持器的直径的八分之一的直径。

10.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述基板保持器是静电夹盘或真空夹盘。

11.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

基板旋转机构，所述基板旋转机构可操作以使所述基板保持器绕所述第一轴线旋转且所述基板旋转机构通过第一轴耦接至所述基板保持器。

12.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

数个喷雾棒，所述数个喷雾棒设置在所述外壳中且被配置成在所述外壳中分配清洁液。

13.如权利要求1所述的粒子清洁模块，其中所述外壳进一步包括被配置成允许机械手进出所述外壳的盖。

14.如权利要求1所述的粒子清洁模块，所述粒子清洁模块进一步包括：

凹穴，所述凹穴耦接至所述外壳且被配置成接收所述第一垫保持器。

15.一种用于清洁基板的方法，所述方法包括：

使以垂直取向设置的基板旋转；

向旋转的基板的表面提供清洁液；

抵靠所述旋转的基板的所述表面按压第一垫；

跨所述基板的所述表面沿着曲线路径移动所述第一垫；

向所述旋转的基板的排除区域、边缘部分或所述排除区域和所述边缘部分两者提供抛光液；

抵靠所述旋转的基板的所述排除区域、所述边缘部分或所述排除区域和所述边缘部分两者按压第二垫；以及

跨所述基板的所述排除区域、所述边缘部分或所述排除区域和所述边缘部分横向地移动所述第二垫。