[发明专利]CVD生产空间的清洁在审
| 申请号： | 201480020750.3 | 申请日： | 2014-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN105121342A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | 哈拉尔德·赫特莱因;弗里德里克·波普 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学股份公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 张英;宫传芝 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明的主题是一种用于清洁生产多晶硅用生产空间的方法，其中，空间包括多个CVD反应器，清洁在两周内进行至少一次。为了进行清洁，使用水性清洁液，清洁CVD反应器的外壳、管道和生产空间的地板。 | ||
| 搜索关键词： | cvd 生产 空间 清洁 | ||
【主权项】：
一种用于清洁包括多个CVD反应器的生产多晶硅用的生产室的方法，其中，在两周内进行至少一次清洁，其中，将水性清洁液用于清洁，其中，清洁所述CVD反应器的外壳、管道和所述生产室的地板。
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