[发明专利]层积体及阻气膜在审

专利信息
申请号: 201480018522.2 申请日: 2014-03-19
公开(公告)号: CN105263704A 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 堀池乔文;佐藤尽;高岛菜穗 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C23C16/40;C23C16/455
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张苏娜;常海涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 层积体(5)包括:具有表面的基材(1)、覆盖所述基材(1)表面、且其膜厚为3nm以上500nm以下的原子层沉积膜(3)、和覆盖所述原子层沉积膜(3)的保护膜层(4)。在将所述原子层沉积膜(3)的厚度设为ta、将所述保护膜层(4)的厚度设为tOC时,所述保护膜层(4)的厚度满足ta<tOC<50ta的关系。
搜索关键词: 层积 阻气膜
【主权项】:
一种层积体,其包括:具有表面的基材,覆盖所述基材的所述表面、且其膜厚为3nm以上500nm以下的原子层沉积膜、以及覆盖所述原子层沉积膜的保护膜层,其中,在将所述原子层沉积膜的厚度设为ta、将所述保护膜层的厚度设为tOC时,所述保护膜层的厚度满足ta<tOC<50ta的关系。
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