[发明专利]层积体及阻气膜在审

专利信息
申请号: 201480018522.2 申请日: 2014-03-19
公开(公告)号: CN105263704A 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 堀池乔文;佐藤尽;高岛菜穗 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C23C16/40;C23C16/455
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张苏娜;常海涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 层积 阻气膜
【权利要求书】:

1.一种层积体,其包括:

具有表面的基材,

覆盖所述基材的所述表面、且其膜厚为3nm以上500nm以下的原子层沉积膜、以及

覆盖所述原子层沉积膜的保护膜层,其中,

在将所述原子层沉积膜的厚度设为ta、将所述保护膜层的厚度设为tOC时,所述保护膜层的厚度满足ta<tOC<50ta的关系。

2.根据权利要求1所述的层积体,其中,

所述保护膜层由水溶性高分子和金属醇盐构成。

3.根据权利要求1所述的层积体,其中,

所述保护膜层由具有选自Si、Al、Ti中的至少一个元素的氧化物、氮化物、氮氧化物中的任一种构成。

4.根据权利要求1所述的层积体,

其中,所述保护膜层利用湿式涂布或干式涂布中的任一种技术而形成。

5.一种阻气膜,其是使权利要求1至4中任一项所述的层积体形成为薄膜状而得到的。

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