[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及研磨垫有效
| 申请号： | 201480017827.1 | 申请日： | 2014-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN105051816B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 俵义浩 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B37/005;B24B37/11;C03C19/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够降低形状波长为50μm～150μm的范围的微小波纹的磁盘用玻璃基板的制造方法。本发明中将下述研磨垫用于研磨处理，对于该研磨垫而言，从研磨垫的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，在研磨垫表面以50μm间隔连续计测12点的研磨垫的下沉量，由所取得的下沉量中除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到标准偏差，该标准偏差为0.15μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 玻璃 制造 方法 以及 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与具备发泡树脂层的研磨垫之间供给包含研磨磨粒的研磨液，对玻璃基板的主表面进行研磨，其特征在于，作为所述研磨垫，使用以下的研磨垫：从所述研磨垫的作为研磨面的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，计测所述研磨垫的下沉量，一边使所述压头直线移动，一边在所述研磨垫表面以50μm间隔连续取得12点的该下沉量，在所取得的下沉量中，由除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到标准偏差时，该标准偏差为0.15μm以下。
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