[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及研磨垫

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与具备发泡树脂层的研磨垫之间供给包含研磨磨粒的研磨液，对玻璃基板的主表面进行研磨，其特征在于，

作为所述研磨垫，使用以下的研磨垫：

从所述研磨垫的作为研磨面的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，计测所述研磨垫的下沉量，一边使所述压头直线移动，一边在所述研磨垫表面以50μm间隔连续取得12点的该下沉量，在所取得的下沉量中，由除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到标准偏差时，该标准偏差为0.15μm以下。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨垫中的所述10点的下沉量的算术平均值为5μm以上。

3.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与具备发泡树脂层的研磨垫之间供给包含研磨磨粒的研磨液，对玻璃基板的主表面进行研磨，其特征在于，

作为所述研磨垫，使用以下的研磨垫：

从所述研磨垫的作为研磨面的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，计测所述研磨垫的下沉量，一边使所述压头直线移动，一边在所述研磨垫表面以50μm间隔连续取得12点的该下沉量，在所取得的下沉量中，由除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到算术平均值时，该算术平均值为5μm以上。

4.如权利要求3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨垫中的所述10点的下沉量的算术平均值为10μm以上。

5.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，进行所述研磨处理前的玻璃基板的表面粗糙度Ra为3nm以下。

6.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，利用定盘上贴附有所述研磨垫的行星齿轮方式的研磨装置同时研磨所述玻璃基板的两主表面时，按照所述研磨垫对于所述玻璃基板的挤压力在75gf/cm²～150gf/cm²的范围的方式进行所述研磨处理。

7.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨磨粒包含胶态二氧化硅。

8.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板是在搭载于具备搭载了动态飞行高度控制功能的磁头的硬盘驱动器的磁盘中所用的玻璃基板。

9.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在利用权利要求1～8中任一项所述的制造方法所得到的磁盘用玻璃基板上至少形成磁性层。

10.一种研磨垫，其为在对磁盘用玻璃基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨垫，其特征在于，

从所述研磨垫的作为研磨面的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，计测所述研磨垫的下沉量，一边使所述压头直线移动，一边在所述研磨垫表面以50μm间隔连续取得12点的该下沉量，在所取得的下沉量中，由除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到标准偏差时，该标准偏差为0.15μm以下。

11.一种研磨垫，其为在对磁盘用玻璃基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨垫，其特征在于，

从所述研磨垫的作为研磨面的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时，计测所述研磨垫的下沉量，一边使所述压头直线移动，一边在所述研磨垫表面以50μm间隔连续取得12点的该下沉量，在所取得的下沉量中，由除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到算术平均值时，该算术平均值为5μm以上。