[发明专利]含有离子性化合物的处理液、有机电子元件和有机电子元件的制造方法有效
| 申请号： | 201480013004.1 | 申请日： | 2014-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN105027677B | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 舟生重昭;浅野直纪;石塚健一 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;G09F9/30;H01L27/32;H01L31/04;H01L51/50 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及一种处理液，其含有离子性化合物和溶剂，并且用于使离子性化合物附着于选自由待形成具有空穴传输性的层的面和具有空穴传输性的层的表面构成的组中的至少一个面上。 | ||
| 搜索关键词： | 离子性化合物 有机电子元件 空穴传输性 处理液 溶剂 附着 自由 制造 | ||
【主权项】：
1.一种有机电子元件的制造方法，其依次具有下述工序：形成阳极的工序、形成具有空穴传输性的层B的工序、在具有空穴传输性的层B的表面上涂布含有离子性化合物和溶剂的处理液的工序、在具有空穴传输性的层B的涂布了处理液的表面上形成具有空穴传输性的层A的工序、和形成阴极的工序。
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