[发明专利]含有离子性化合物的处理液、有机电子元件和有机电子元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201480013004.1 申请日: 2014-03-06
公开(公告)号: CN105027677B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 舟生重昭;浅野直纪;石塚健一 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;G09F9/30;H01L27/32;H01L31/04;H01L51/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 离子性化合物 有机电子元件 空穴传输性 处理液 溶剂 附着 自由 制造
【权利要求书】:

1.一种有机电子元件的制造方法,其依次具有下述工序:

形成阳极的工序、

形成具有空穴传输性的层B的工序、

在具有空穴传输性的层B的表面上涂布含有离子性化合物和溶剂的处理液的工序、

在具有空穴传输性的层B的涂布了处理液的表面上形成具有空穴传输性的层A的工序、和

形成阴极的工序。

2.根据权利要求1所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述处理液进一步含有具有聚合性取代基的化合物。

3.根据权利要求1或2所述的有机电子元件的制造方法,其中,该方法进一步具有在待形成具有空穴传输性的层B的面上涂布处理液的工序。

4.根据权利要求1或2所述的有机电子元件的制造方法,其中,该方法进一步具有形成发光层的工序。

5.根据权利要求1或2所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述离子性化合物具有选自由式(1A)所表示的阴离子~式(5A)所表示的阴离子构成的组中的至少1种阴离子,

式(1A)~(5A)中,E1表示氧原子,E2表示氮原子,E3表示碳原子,E4表示硼原子或镓原子,E5表示磷原子或锑原子,

Y1~Y6分别独立地表示单键或2价的连接基,

R1~R16分别独立地表示吸电子性的1价基团,其中R2和R3、选自R4~R6中的至少2个基团、选自R7~R10中的至少2个基团、以及选自R11~R16中的至少2个基团分别可以相互结合。

6.根据权利要求1或2所述的有机电子元件的制造方法,其中,所述离子性化合物具有选自由属于IUPAC的元素周期表的第1族和第2族的元素的阳离子以及式(1B)所表示的阳离子~式(3B)所表示的阳离子构成的组中的至少1种阳离子,

式(1B)~(3B)中,A1表示属于IUPAC的元素周期表的第17族或第14族的元素,A2表示属于IUPAC的元素周期表的第16族或第14族的元素,A3表示属于IUPAC的元素周期表的第15族的元素,

R1~R9分别独立地表示氢原子或有机基团,其中R1和R2、选自R3~R5中的至少2个基团、以及选自R6~R9中的至少2个基团分别可以相互结合。

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