[发明专利]化合物膜的制造方法有效
申请号: | 201480012651.0 | 申请日: | 2014-04-28 |
公开(公告)号: | CN105026606B | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 岸梅工;岩堀恒一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/363 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种控制化合物膜中氮含量的化合物膜的制造方法,该化合物膜的制造方法中,在载置于成膜室的基板上形成层叠的覆膜,其中,在基板上交替层叠第1化合物层和第2化合物层,所述第1化合物层含有选自金属元素和半金属元素中的1种以上的元素和氧元素,其利用过滤电弧离子镀法形成,所述第2化合物层含有所述1种以上的元素和氮元素,其利用溅射法形成。 | ||
搜索关键词: | 化合物 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种化合物膜的制造方法,其在载置于成膜室的基板上形成化合物膜,其中,在所述基板上交替层叠第1化合物层和第2化合物层,所述第1化合物层含有选自金属元素和半金属元素中的1种以上的元素和氧元素,所述第2化合物层含有所述1种以上的元素和氮元素,所述第1化合物层利用过滤电弧离子镀法形成,所述第2化合物层利用溅射法形成,所述第1化合物层是氧化钛,所述第2化合物层是氮化钛。
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