[发明专利]基于预激发的X射线准直器大小和位置调节

摘要

一种用于图像采集的X射线装置和相关方法。所述装置包括视场校正器(CS)，所述视场校正器被配置为接收在预激发成像阶段中由成像器利用试验准直器设定采集的定位图像(SI)，在所述预激发成像阶段中，所述成像器以低剂量辐射锥操作，令探测器记录定位图像。在探测器的图像平面中，低剂量锥具有小于探测器表面的总区域的第一横截面。视场校正器(CS)使用所述定位图像来建立用于后续成像阶段的视场校正信息，在所述后续成像阶段中，成像器以高剂量辐射锥操作，所述高剂量高于所述低剂量。

主权项

1.一种用于图像采集的X射线装置，包括：X射线源(XR)，其被配置为生成用于目标(PAT)的图像采集的X射线辐射；准直器(C)，其被配置为将所述X射线辐射准直为辐射锥，当采集所述图像时所述辐射锥(PR)在感兴趣区域处辐照所述目标(PAT)；便携式辐射探测器(D)，所述探测器被配置为在所述X射线辐射经过所述目标之后记录所述X射线辐射；视场校正器(CS)，其被配置为在预激发成像阶段中接收由所述探测器利用所述准直器(C)的试验性设定采集到的定位图像(SI)，所述试验性设定导致低剂量辐射锥冲击在所述探测器上，所述低剂量辐射锥在所述探测器的图像平面中具有小于所述探测器的表面区域的第一横截面，所述视场校正器(CS)还被配置为使用所述定位图像来建立用于后续成像阶段的视场校正信息，所述视场校正信息包括用于确定所述准直器(C)的经校正的设定的准直校正信息，其中，在所述后续成像阶段中，所述准直器(C)的所述经校正的设定导致高剂量辐射锥冲击在所述探测器上，所述高剂量高于所述低剂量，并且所述高剂量辐射锥在所述探测器的图像平面中具有大于所述第一横截面的第二横截面，并且所述高剂量辐射锥i)基本上与所述探测器的所述表面区域同延，或者ii)是所述第一横截面的对称放大并且以所述高剂量辐射锥的整体在所述探测器的所述表面区域内延伸。